[发明专利]高分辨率3D雷达波成像设备在审
申请号: | 201780079572.5 | 申请日: | 2017-12-21 |
公开(公告)号: | CN110121656A | 公开(公告)日: | 2019-08-13 |
发明(设计)人: | T·施皮尔曼;N·赫施巴赫 | 申请(专利权)人: | IEE国际电子工程股份公司 |
主分类号: | G01S13/89 | 分类号: | G01S13/89;G01S17/89;G01S7/03;G01S7/481;G01S13/32;H01Q1/38;H01Q1/40;H01Q1/52;H01Q9/04;H01Q13/10;H01Q15/02;H01Q19/06;H01Q21/06 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 张立达 |
地址: | 卢森堡埃*** | 国省代码: | 卢森堡;LU |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 雷达接收器 雷达波 场景 透镜 成像雷达 成像设备 二维阵列 光学单元 雷达接收 雷达 雷达发射天线 发射雷达波 雷达发射器 高分辨率 背对 反射 成像 | ||
1.一种雷达波成像设备(10),包括:
-雷达发射器单元(18),其具有至少一个雷达发射天线(20)并且被配置用于朝向场景发射雷达波,
-雷达接收单元(22),其被配置用于接收由发射器单元(18)发射的所述雷达波已经照射的对象所反射的雷达波,所述雷达接收单元(22)包括被布置为二维阵列的多个雷达接收器构件(24),
其特征在于,所述雷达接收单元(22)包括成像雷达光学单元(32),以用于将所述场景的至少一部分成像到雷达接收器构件(24)的所述二维阵列的至少一部分上,其中,所述成像雷达光学单元(32)至少包括被布置在所述雷达接收器构件(24)与所述场景之间的第一雷达透镜(36),并且其中,所述雷达接收器构件(24)被布置为与所述第一雷达透镜(36)的背对所述场景的表面直接接触。
2.根据权利要求1所述的雷达波成像设备(10),其中,所述成像雷达光学单元(32)包括至少一个第二雷达透镜(46),其被布置在所述第一雷达透镜(36)与所述场景之间。
3.根据权利要求1或2所述的雷达波成像设备(10),其中,所述第一雷达透镜(36)包括在待发射的所述雷达波的雷达载波频率处具有大于3.0并且优选地在5.0与50.0之间的折射率的材料。
4.根据前述权利要求中任一项所述的雷达波成像设备(10),其中,所述第一雷达透镜(36)至少在指向所述场景的表面上包括至少一层抗反射涂层(52)。
5.根据前述权利要求中任一项所述的雷达波成像设备(10),其中,所述雷达发射器单元(18)包括用于调制待发射的所述雷达波的至少一个调制单元,并且其中,所述调制包括幅度调制、频率调制和相位调制中的至少一个或其组合。
6.根据前述权利要求中任一项所述的雷达波成像设备(10),其中,所述雷达接收器构件(24)包括贴片天线、缝隙天线或偶极天线中的至少一个。
7.根据前述权利要求中任一项所述的雷达波成像设备(10),还包括接收器电路(56),其电连接到所述多个雷达接收器构件(24)并且被配置用于对所述雷达接收器构件(24)的信号的模拟信号处理和/或数字信号处理,其中,雷达接收器构件(24)中的至少一个包括至少一个谐振构件(26),所述至少一个谐振构件(26)在所述接收器电路(56)的载波频率处谐振。
8.根据前述权利要求中任一项所述的雷达波成像设备(10),其中,所述雷达接收器构件(24)中的至少一个包括天线构件(26),所述天线构件(26)被配置用于根据接收的雷达波的偏振来区分所述接收的雷达波。
9.根据前述权利要求中任一项所述的雷达波成像设备(10),其中,所述多个雷达接收器构件(24)中的所述雷达接收器构件(24)通过电磁屏障(60)彼此电磁地相互分离。
10.根据前述权利要求中任一项所述的雷达波成像设备(10),其中,在所述二维阵列中,所述雷达接收器构件(24)在所述阵列的第一维度中以第一间距(28)均匀地隔开,并且在所述阵列的第二维度中以第二间距(30)均匀地隔开,所述第二维度垂直于所述第一维度。
11.根据前述权利要求中任一项所述的雷达波成像设备(10),其中,所述二维阵列的所述雷达接收器构件(24)之间的间距(28、30)被选择为大于所述成像雷达光学单元(32)的衍射极限光斑直径的0.5倍的因子并且小于所述衍射极限光斑直径的2.0倍的因子。
12.根据前述权利要求中任一项所述的雷达波成像设备(10),其中,所述雷达发射器单元(18)和所述多个雷达接收器构件(24)被配置为以单输入和多输出配置或者多输入和多输出配置来操作。
13.一种电磁辐射接收单元(22),其被配置用于接收电磁波,特别是雷达波,所述电磁波是已经由电磁波照射的对象所反射的,所述电磁辐射接收单元(22)包括对所述电磁波敏感并且被布置为二维阵列的多个接收器构件(24),
其特征在于,成像光学单元(32)用于将所述场景的至少一部分成像到接收器构件(24)的所述二维阵列的至少一部分上,其中,所述成像光学单元(32)至少包括第一电磁透镜(36),所述第一电磁透镜(36)被配置用于所述电磁辐射的折射并且被布置在所述接收器构件(24)与所述场景之间,并且其中,所述接收器构件(24)被布置为与所述第一透镜(36)的背对所述场景的表面直接接触。
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