[发明专利]用于图案保真度控制的方法与设备有效
申请号: | 201780079785.8 | 申请日: | 2017-11-28 |
公开(公告)号: | CN110088689B | 公开(公告)日: | 2022-05-13 |
发明(设计)人: | T·哈桑;V·K·贾因;斯蒂芬·亨斯克;B·拉方丹 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 胡良均 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 图案 保真度 控制 方法 设备 | ||
1.一种热点评估的方法,所述方法包括:
获得针对第一热点和第二热点中的每一个的过程窗口数据,所述过程窗口数据包括用于所述第一热点和第二热点中的每一个的聚焦信息;和
由硬件计算机基于衬底的形貌数据评估所述过程窗口数据的聚焦信息,以识别或改变所述第一热点和/或所述第二热点的临界状态。
2.如权利要求1所述的方法,其中所述评估包括对横过衬底的聚焦分布评估所述聚焦信息,且其中使用所述形貌数据来偏移所述聚焦分布或所述聚焦信息。
3.如权利要求2所述的方法,其中从横过衬底定位的多个场或管芯的测量获得所述聚焦分布。
4.如权利要求2所述的方法,其中所述评估包括所述聚焦分布与所述第一热点的聚焦信息的重叠或非重叠和所述聚焦分布与所述第二热点的所述聚焦信息的重叠或非重叠之间的相对考量,和/或其中所述评估包括调整所述第一热点的临界状态相对于所述第二热点的临界状态的分级。
5.如权利要求1至4中任一项所述的方法,其中所述过程窗口数据是通过计算光刻建模来获得的。
6.如权利要求1至4中任一项所述的方法,其中评估所述过程窗口数据的负散焦极端或正散焦极端处的所述聚焦信息以识别或改变所述第一热点和/或所述第二热点的临界状态。
7.如权利要求1至4中任一项所述的方法,其中所述形貌为亚微米或纳米尺度。
8.一种计算机程序存储介质,所述存储介质上记录有指令,所述指令在由计算机执行时实施如权利要求1所述的方法。
9.如权利要求8所述的计算机程序存储介质,其中所述指令在由计算机执行时还实施:对横过衬底的聚焦分布评估所述聚焦信息,且
其中所述聚焦分布或所述聚焦信息被使用所述形貌数据进行偏移。
10.如权利要求9所述的计算机程序存储介质,其中所述聚焦分布是从横过衬底定位的多个场或管芯的测量获得的。
11.如权利要求9所述的计算机程序存储介质,其中,所述指令在由计算机执行时还实施:通过所述聚焦分布与所述第一热点的聚焦信息的重叠或非重叠和所述聚焦分布与所述第二热点的所述聚焦信息的重叠或非重叠之间的相对考量进行评估,和/或
其中所述指令在由计算机执行时还实施:调整所述第一热点的临界状态相对于所述第二热点的临界状态的分级。
12.如权利要求8-11中任一项所述的计算机程序存储介质,其中所述过程窗口数据是通过计算光刻建模来获得的。
13.如权利要求8至11中任一项所述的计算机程序存储介质,其中评估所述过程窗口数据的负散焦极端或正散焦极端处的所述聚焦信息以识别或改变所述第一热点和/或所述第二热点的临界状态。
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