[发明专利]1,3,7-辛三烯聚合物和其氢化物、以及该聚合物的制造方法

权利要求书

1.聚合物，其是含有源自1,3,7-辛三烯的结构单元的聚合物，分子量分布(Mw/Mn)为2.05以下，且重均分子量(Mw)为1,000~1,000,000，含有95摩尔%以上的源自1,3,7-辛三烯的结构单元。

2.根据权利要求1所述的聚合物，其中，重均分子量(Mw)为4,000~500,000。

3.根据权利要求1或2所述的聚合物，其中，重均分子量(Mw)为7,000~200,000。

4.根据权利要求1或2所述的聚合物，其中，重均分子量(Mw)为13,000~200,000。

5.根据权利要求1或2所述的聚合物，其中，分子量分布(Mw/Mn)为1.80以下。

6.根据权利要求1或2所述的聚合物，其中，在分子末端不具有活性阴离子活性物种。

7.根据权利要求1或2所述的聚合物，其中，在分子末端具有活性阴离子活性物种。

8.权利要求1~6中任一项所述的聚合物的氢化物。

9.聚合物的制造方法，其具有使通过气相色谱求出的纯度超过98.0%的1,3,7-辛三烯进行阴离子聚合的步骤，所述聚合物含有源自1,3,7-辛三烯的结构单元，

分子量分布(Mw/Mn)为2.05以下，且重均分子量(Mw)为1,000~1,000,000。

10.根据权利要求9所述的聚合物的制造方法，其中，在所述1,3,7-辛三烯中任选包含的杂质中包含选自过氧化物和其分解物中的至少1种，1,3,7-辛三烯中的所述过氧化物和其分解物的总计含量为0.30mmol/kg以下。

11.根据权利要求9或10所述的聚合物的制造方法，其中，所述1,3,7-辛三烯的基于气相色谱分析的纯度为99.0%以上。

12.根据权利要求9或10所述的聚合物的制造方法，其中，所述阴离子聚合在路易斯碱的存在下实施。

13.根据权利要求12所述的聚合物的制造方法，其中，所述路易斯碱与所述阴离子聚合中使用的聚合引发剂的摩尔比、即路易斯碱/聚合引发剂的摩尔比、为0.01~1,000。

14.根据权利要求12所述的聚合物的制造方法，其中，所述路易斯碱是在分子内具有选自醚键和叔氨基中的至少1种的化合物。

15.根据权利要求12所述的聚合物的制造方法，其中，所述路易斯碱是具有1个有非共用电子对的原子的化合物。

16.根据权利要求12所述的聚合物的制造方法，其中，路易斯碱是具有2个以上的有非共用电子对的原子的化合物。

17.根据权利要求16所述的聚合物的制造方法，其中，所述路易斯碱具有多齿配位性。

18.根据权利要求9或10所述的聚合物的制造方法，其中，阴离子聚合结束后的反应液的固体成分浓度为10~80质量%。

19.根据权利要求9或10所述的聚合物的制造方法，其中，在-50~200℃下实施阴离子聚合。

20.根据权利要求9或10所述的聚合物的制造方法，其中，阴离子聚合结束后的通过气相色谱求出的1,3,7-辛三烯的转化率为80.0%以上。

21.根据权利要求9或10所述的聚合物的制造方法，其中，阴离子聚合结束后的通过气相色谱求出的1,3,7-辛三烯的转化率为97.0%以上。