[发明专利]具有经调节的调节装置的掩膜保持件

说明书

本发明涉及一种用于掩膜(1)的保持件，掩膜在涂层方法中平放在基底(2)的待涂层的表面上，以便将层的沉积局限于所述表面的通过掩膜(1)的形状和位置预先确定的面区段，其中，保持件的框架(3)的区段(4、4’、4”、4”’、16)利用使掩膜(1)变形的可变的拉力作用在掩膜(1)的边缘(1’)上。规定下列创新：用于确定掩膜(1)相对于基底(2)的实际位置的传感器(5)、用于改变框架(3)的至少一个第一区段(4)相对于框架(3)的至少一个第二区段(4’)的位置的调节元件(6、7、8)和带有控制装置(9)的调节电路，以便通过改变拉力(Z、Z’、Z”、Z”’)使掩膜(1)的实际位置朝掩膜(1)的额定位置的方向改变。本发明此外还涉及一种用于调节掩膜的位置的方法，在该方法中使用调节电路。

技术领域

本发明涉及一种用于掩膜的保持件，掩膜在涂层方法中平放在基底的待涂层的表面上，以便将层的沉积局限于表面的通过掩膜的形状和位置预先确定的面区段，其中，保持件的框架的区段利用使掩膜变形的可变的拉力作用在掩膜的边缘上。

此外，本发明还涉及用于调节掩膜的位置的方法，掩膜在涂层方法中平放在基底的待涂层的表面上，以便将层的沉积局限于表面的通过掩膜的形状和位置预先确定的面区段，其中，利用保持件的框架的区段，在掩膜的边缘上施加使掩膜变形的拉力。

背景技术

根据本发明的设备和根据本发明的方法用于将侧面结构化的层沉积在基底上，其中，形成层的材料作为气体、尤其是作为蒸汽形的有机分子导入反应器、例如CVD或PVD反应器的过程腔中。气态的原材料冷凝，或者在基底的表面上反应，并且在此形成层。本发明尤其是涉及一种设备，其可以用在制造LCD显示器或OLED显示器时。在此使用的掩膜具有与接片分离的窗口，窗口自由保留基底的表面的彼此分离的面区段。彼此不同的原材料沉积在该表面区段上，原材料在电激励中以不同的颜色发光。掩膜由薄壁的、侧面结构化的金属板材构成，并且通过沿掩膜延伸方向将对准的拉力施加至掩膜的边缘上被张紧，使得窗口位于指定的部位处。US 2014/0158044 A1描述了一种掩膜框架，在掩膜框架上固定了矩形的掩膜的边缘，并且掩膜框架具有牵引元件，以便在彼此不同的部位上将对准的拉力分别施加到掩膜上。

由WO 2007/133252 A1已知的是，在与掩膜框架连接时对掩膜进行调温。在此，利用另一温度对框架进行调温，从而在温度改变时，基于不同的温度膨胀系数，在掩膜面中构建侧面的应力。

用于制造掩膜的方法在US 7,765,669 B2中公开，其中，掩膜在制造时被张紧。

US 2016/0376703 A1描述了一种用于相对于基底的表面调节掩膜的方法和设备，其中，借助CCD传感器检测掩膜或基底的调节标记，并且借助形式为螺纹丝杆的调节元件改变保持件的对置的区段的位置。

由US 2015/0068456 A1公开了一种用于掩膜的保持件。保持件具有四个框架侧边，可以借助螺纹丝杆或压电元件改变框架侧边相对于基板的位置。

发明内容

为了通过调节在掩膜的边缘上承载掩膜的框架的温度来张紧掩膜，掩膜的材料和框架的材料可以具有不同的温度膨胀系数，从而温度改变导致掩膜的变形。通过有目的的变形，可以将掩膜从实际位置带到额定位置，因为通过施加拉力，掩膜的对置的边缘区段彼此间隔开。也可以设置其他的调节元件，以便将对准的拉力施加到掩膜的边缘上。基于对框架和基底的不同的和尤其是个体化的影响，框架或掩膜的机械变形可以尤其是基于或由于基底或掩膜的调温不能通过计算确定。

本发明的技术问题是有利于使用地改进用于掩膜的由现有技术已知的保持件，并且提供一种方法，利用该方法相对于现有技术改进掩膜的位置的调节。

该技术问题通过在权利要求书中说明的发明解决。从属权利要求不仅是在并排的权利要求中说明的发明的有利的改进方案，而且也是一个技术问题的独立的解决方案，该解决方案尤其在于有利于需要地改进按本发明的保持件。