[发明专利]粒子制造装置以及粒子制造方法有效

专利信息
申请号: 201780082519.0 申请日: 2017-12-06
公开(公告)号: CN110167663B 公开(公告)日: 2022-03-29
发明(设计)人: 藤井正嗣;设乐勇城;铃木忍 申请(专利权)人: 大川原化工机株式会社
主分类号: B01J2/04 分类号: B01J2/04;B01D1/18
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 何立波;张天舒
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 粒子 制造 装置 以及 方法
【说明书】:

提供能够制造达到期望的粒径且粒径分布狭窄的粒子的粒子制造装置。粒子制造装置(100)具有:旋转盘(10),其具有板状部(11)以及与该板状部(11)连接的筒状部(12);以及原料供给部(20),其配置于旋转盘(10)的上方,形成有供给原料的原料供给口(21),在原料供给部(20)上,供给气体的气体供给口(22)形成于原料供给口(21)的外侧,从气体供给口(22)供给的气体对原料赋予方向,以使得从原料供给口(21)供给的原料与筒状部(12)的表面接触。

技术领域

本发明涉及粒子制造装置以及粒子制造方法。更详细而言,涉及能够制造达到期望的粒径、且粒径分布狭窄的粒子的粒子制造装置以及粒子制造方法。

背景技术

当前,作为制造陶瓷的微粒等的装置而已知离心式的喷雾干燥装置。作为这种喷雾干燥装置,例如报告有具有以雾状喷射原料的喷雾盘、以及对喷雾盘进行收容的喷雾干燥室的结构(例如参照专利文献1)。

专利文献1:日本特开2006-326398号公报

发明内容

即使是专利文献1中记载的喷雾干燥装置,也难以充分抑制粒子的粒径的波动,存有进一步改良的余地。因此,迫切期望能够制造达到期望的粒径(平均粒径)、且粒径分布狭窄(即,粒子的粒径的波动得到抑制)的粒子的粒子制造装置的开发。

另外,还迫切期望在喷雾冷却造粒装置中也能够与喷雾干燥装置同样地制造达到期望的粒径、且粒径分布狭窄的粒子的结构的开发。

本发明就是为了解决如上所述的现有技术的问题而提出的,提供能够制造达到期望的粒径、且粒径分布狭窄的粒子的粒子制造装置以及粒子制造方法。

根据本发明,提供下面的粒子制造装置以及粒子制造方法。

[1]一种粒子制造装置,具有:旋转盘,其具有板状部以及与所述板状部连接的筒状部;以及原料供给部,其配置于所述旋转盘的上方,形成有供给原料的原料供给口,在所述原料供给部,供给气体的气体供给口形成于所述原料供给口的外侧,从所述气体供给口供给的所述气体对所述原料赋予方向,以使得从所述原料供给口供给的所述原料与所述筒状部的表面接触。

[2]在所述[1]中记载的粒子制造装置的基础上,所述原料供给口以及所述气体供给口分别为环状的狭缝,从所述原料供给口供给膜状且环状的所述原料。

[3]在所述[2]中记载的粒子制造装置的基础上,所述原料供给口的开口宽度大于所述气体供给口的开口宽度。

[4]在所述[1]至[3]中任一方案记载的粒子制造装置的基础上,所述原料供给部具有形成有辅助面的凸状部,所述辅助面对所述原料以使其与所述筒状部的表面接触的方式进行引导。

[5]在所述[4]记载的粒子制造装置的基础上,所述凸状部的所述辅助面的长度大于或等于1.5mm,为所述气体供给口的开口宽度的6~25倍。

[6]在所述[1]至[5]中任一方案记载的粒子制造装置的基础上,所述板状部的作为供所述原料流动的面的上表面,具有与所述旋转盘的旋转方向平行的平面。

[7]在所述[1]至[6]中任一方案记载的粒子制造装置的基础上,从所述原料供给口向铅直方向喷出所述原料。

[8]一种粒子制造方法,其是利用所述[1]~[7]中任一方案记载的粒子制造装置的粒子的制造方法,具有:原料供给工序,从所述原料供给口供给所述原料、且从所述气体供给口供给所述气体,所述气体对所述原料赋予方向,以使得所述原料与所述筒状部的表面接触;以及粒子形成工序,在所述原料与所述筒状部的表面接触而使得所述原料在所述旋转盘上形成液膜之后,将所述原料作为粒子向所述旋转盘的外部排出,在原料供给工序中,气体和原料的质量比的值设为0.1~1.5。

发明的效果

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