[发明专利]硬涂层系统以及用于以连续卷绕式工艺制造硬涂层系统的方法

权利要求书

1.一种硬涂层系统(100)，适用于在触控屏幕面板中使用，所述硬涂层系统包括：

柔性基板(101)；及

层堆叠物(110)，设置于所述柔性基板(101)上，其中所述层堆叠物(110)包括粘附促进层(111)、抗反射层堆叠物(120)及无机硬涂顶层(113)，所述粘附促进层设置于所述柔性基板(101)上，其中所述抗反射层堆叠物(120)包括NbO_x和硅中的至少一者，并且其中所述抗反射层堆叠物(120)设置于所述粘附促进层(111)及所述无机硬涂顶层(113)之间；

其中所述粘附促进层(111)构造成以共价键结合于所述柔性基板的表面，且其中所述粘附促进层(111)在与所述柔性基板(101)的界面(102)处的机械性质适用于所述柔性基板(101)的机械性质。

2.如权利要求1所述的硬涂层系统(100)，其中所述粘附促进层(111)具有100nm≤T_APL≤800nm的厚度T_APL。

3.如权利要求1或2所述的硬涂层系统(100)，其中所述无机硬涂顶层(113)的厚度T_HTL为100nm≤T_HTL≤1μm。

4.如权利要求1或2所述的硬涂层系统(100)，其中所述粘附促进层(111)包括碳氧化硅SiO_xC_y。

5.如权利要求1或2所述的硬涂层系统(100)，其中所述粘附促进层(110)由碳氧化硅SiO_xC_y组成。

6.如权利要求1或2所述的硬涂层系统(100)，其中所述无机硬涂顶层(113)包括氧化硅SiO_x或其中所述无机硬涂顶层(113)包括碳化硅SiC。

7.如权利要求1或2所述的硬涂层系统(100)，其中所述无机硬涂顶层(113)由氧化硅SiO_x组成或其中所述无机硬涂顶层(113)由碳化硅SiC组成。

8.如权利要求1或2所述的硬涂层系统(100)，其中所述无机硬涂顶层具有从2H至9H的铅笔硬度(pencilhardness)。

9.如权利要求1所述的硬涂层系统(100)，其中所述抗反射层堆叠物(120)包括SiO_x的第一层(121)、NbO_x的第二层(122)及SiO_x的第三层(123)，所述第一层(121)设置于所述粘附促进层(111)上，所述第二层(122)设置于所述第一层(121)上，所述第三层(123)设置于所述第二层(122)上。

10.如权利要求9所述的硬涂层系统(100)，其中所述抗反射层堆叠物(120)进一步包括ITO的第四层(124)，所述第四层(124)设置于所述第三层(123)上。

11.如权利要求1所述的硬涂层系统(100)，进一步包括其他粘附促进层(112)，所述其他粘附促进层(112)位于所述抗反射层堆叠物(120)及所述无机硬涂顶层(113)之间。

12.如权利要求9所述的硬涂层系统(100)，进一步包括其他粘附促进层(112)，所述其他粘附促进层(112)位于所述抗反射层堆叠物(120)及所述无机硬涂顶层(113)之间。

13.如权利要求10所述的硬涂层系统(100)，进一步包括其他粘附促进层(112)，所述其他粘附促进层(112)位于所述抗反射层堆叠物(120)及所述无机硬涂顶层(113)之间。