[发明专利]观察装置及观察方法在审
申请号: | 201780083962.X | 申请日: | 2017-10-12 |
公开(公告)号: | CN110192101A | 公开(公告)日: | 2019-08-30 |
发明(设计)人: | 高桥聪;松田俊辅;宫下贵行;三轮光春 | 申请(专利权)人: | 浜松光子学株式会社 |
主分类号: | G01N21/64 | 分类号: | G01N21/64;A61B10/00;G01N21/27;G02B21/00 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 杨琦 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 观察对象 观察装置 检测光 投影光 照射光 导光光学系统 扫描镜 导光 光源 照射 光检测器 检测结果 同一光路 观察 投影 扫描 检测 | ||
1.一种观察装置,其特征在于,
是观察观察对象的观察装置,
具备:
第1光源,其产生照射光;
第2光源,其产生投影光;
光扫描元件,其朝向所述观察对象以同一光路扫描所述照射光与所述投影光;
导光光学系统,其不经由所述光扫描元件而将对应于所述照射光的照射而在所述观察对象产生的被检测光进行导光;
光检测器,其检测由所述导光光学系统导光的所述被检测光;及
控制部,其基于所述被检测光的检测结果而控制所述投影光的强度。
2.如权利要求1所述的观察装置,其特征在于,
包含所述光扫描元件的光扫描系统的光轴与所述导光光学系统的光轴一致。
3.如权利要求1所述的观察装置,其特征在于,
包含所述光扫描元件的光扫描系统的光轴与所述导光光学系统的光轴不一致。
4.如权利要求1~3中任一项所述的观察装置,其特征在于,
所述照射光为激发光。
5.如权利要求4所述的观察装置,其特征在于,
所述照射光的波长为400nm~810nm。
6.如权利要求1~4中任一项所述的观察装置,其特征在于,
所述照射光的波长为由所述观察对象吸收的波长。
7.如权利要求6所述的观察装置,其特征在于,
所述照射光的波长为735nm~850nm。
8.如权利要求1~7中任一项所述的观察装置,其特征在于,
所述投影光的波长为与所述照射光的波长不同的波长。
9.如权利要求8所述的观察装置,其特征在于,
所述投影光的波长为380nm~780nm。
10.如权利要求1~9中任一项所述的观察装置,其特征在于,
所述光检测器为单点传感器。
11.如权利要求1~10中任一项所述的观察装置,其特征在于,
还具备基于所述被检测光的检测结果而生成图像的图像生成部。
12.如权利要求1~11中任一项所述的观察装置,其特征在于,
所述导光光学系统的视野包含所述光扫描元件对所述照射光的扫描范围。
13.一种观察方法,其特征在于,
是观察观察对象的观察方法,
包含:
第1光产生步骤,其产生照射光;
第2光产生步骤,其产生投影光;
光扫描步骤,其通过光扫描元件朝向所述观察对象以同一光路扫描所述照射光与所述投影光;
导光步骤,其通过导光光学系统,不经由所述光扫描元件而将对应于所述照射光的照射而在所述观察对象产生的被检测光进行导光;
检测步骤,其通过光检测器检测由所述导光光学系统导光的所述被检测光;及
控制步骤,其基于所述检测步骤中的所述被检测光的检测结果而控制所述投影光的强度。
14.如权利要求13所述的观察方法,其特征在于,
使包含所述光扫描元件的光扫描系统的光轴与所述导光光学系统的光轴一致。
15.如权利要求13所述的观察方法,其特征在于,
使包含所述光扫描元件的光扫描系统的光轴与所述导光光学系统的光轴不一致。
16.如权利要求13~15中任一项所述的观察方法,其特征在于,
将所述照射光设为激发光。
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