[发明专利]氨水溶液的制造装置及氨水溶液的制造方法在审
| 申请号： | 201780084672.7 | 申请日： | 2017-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN110225891A | 公开（公告）日： | 2019-09-10 |
| 发明（设计）人： | 小川祐一 | 申请（专利权）人： | 栗田工业株式会社 |
| 主分类号： | C02F1/68 | 分类号： | C02F1/68;B08B3/08;C02F1/42 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 李慧慧;向勇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 氨水溶液 制造装置 制造 超纯水制造装置 稀氨水溶液 供给装置 超纯水 稀氨水 金属离子 氨溶解 使用点 追随性 铵离子 电阻 水中 | ||
【权利要求书】：
1.一种氨水溶液制造装置，其制造从氨供给装置向原料水中添加氨并使氨溶解而成的氨水溶液，并将该氨水溶液供给至使用点，其中，
所述氨水溶液制造装置使用金属离子浓度为1ng/L以下的超纯水作为所述原料水。
2.如权利要求1所述的氨水溶液制造装置，其中，
所述原料水的流入位置与所述氨供给装置的所述氨的添加位置之间的间隔距离为5m以下。
3.如权利要求1或2所述的氨水溶液制造装置，其中，
所述氨水溶液的金属离子浓度为10ng/L以下。
4.一种氨水溶液的制造方法，其制造向原料水中添加氨并使氨溶解而成的氨水溶液，并将该氨水溶液供给至使用点，其中，
所述氨水溶液的制造方法使用金属离子浓度为1ng/L以下的超纯水作为所述原料水。
5.如权利要求4所述的氨水溶液的制造方法，其中，
所述氨水溶液的金属离子浓度为10ng/L以下。
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