[发明专利]具有金属表面的物体、其色调处理方法和气相氧化装置有效

专利信息
申请号: 201780085078.X 申请日: 2017-01-31
公开(公告)号: CN110234782B 公开(公告)日: 2021-12-17
发明(设计)人: 中村优二;若林俊孝;山口郁恵;小林尚子;宫崎邦夫 申请(专利权)人: YKK株式会社
主分类号: C23C8/12 分类号: C23C8/12;A44B19/00;A44B19/42;C23C8/02
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 陈伟;韦嵥
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 具有 金属表面 物体 色调 处理 方法 和气 氧化 装置
【权利要求书】:

1.一种物体,其为拉链构件,其具有:至少表面由含锌的铜合金构成的基材(11);和邻接于该基材(11)表面的氧化层(12),以该氧化层(12)表面为基准,10nm的深度至20nm的深度的范围内的平均锌浓度相对于平均铜浓度之比A高于该基材(11)表面中的平均锌浓度相对于平均铜浓度之比B;

以所述氧化层(12)表面为基准,10nm的深度至20nm的深度的范围内的平均锌浓度和平均铜浓度分别由如下Zn的平均原子浓度和Cu的平均原子浓度表述:通过俄歇电子能谱法,从氧化层表面起,利用通过Ar离子蚀刻沿着深度方向进行元素组成分析,将Cu、Zn和O的原子数的总计设为100%时,以氧化层表面为基准,由10nm的深度至20nm的深度的范围的Zn的平均原子浓度和Cu的平均原子浓度表述;

所述基材(11)表面中的平均锌浓度和平均铜浓度分别由如下Zn的平均原子浓度和Cu的平均原子浓度表述:通过俄歇电子能谱法,从基材表面起至20nm的深度沿着深度方向进行组成分析,将Cu、Zn和O的原子数的总计设为100%时,由基材表面至该深度的Zn的平均原子浓度和Cu的平均原子浓度表述;

所述进行利用俄歇电子能谱法的深度方向的组成分析时的深度是指使用SiO2标准物质的蚀刻速度8.0nm/min,由溅射时间进行换算时的深度。

2.根据权利要求1所述的物体,其中,所述基材(11)表面的平均锌浓度为5~50at.%。

3.根据权利要求1或2所述的物体,其中,所述比A相对于所述比B之比A/B为2.0以上。

4.根据权利要求1或2所述的物体,其中,基材(11)整体由含锌的铜合金构成。

5.根据权利要求4所述的物体,其中,以所述氧化层(12)表面为基准,10nm的深度至20nm的深度的范围内的平均锌浓度为5~80at.%。

6.一种拉链,其具有权利要求1至5中任一项所述的物体。

7.一种物体的色调处理方法,所述物体是紧固件构件,其包括对具有至少表面由含锌的铜合金构成的基材的物体在至少氧气的存在下进行气相氧化,

其包括通过气相氧化而形成氧化层,所述氧化层邻接于基材表面,且以该氧化层表面为基准,10nm的深度至20nm的深度的范围内的平均锌浓度相对于平均铜浓度之比A高于该基材表面中的平均锌浓度相对于平均铜浓度之比B;

以所述氧化层(12)表面为基准,10nm的深度至20nm的深度的范围内的平均锌浓度和平均铜浓度分别由如下Zn的平均原子浓度和Cu的平均原子浓度表述:通过俄歇电子能谱法,从氧化层表面起,利用通过Ar离子蚀刻沿着深度方向进行元素组成分析,将Cu、Zn和O的原子数的总计设为100%时,以氧化层表面为基准,由10nm的深度至20nm的深度的范围的Zn的平均原子浓度和Cu的平均原子浓度表述;

所述基材(11)表面中的平均锌浓度和平均铜浓度分别由如下Zn的平均原子浓度和Cu的平均原子浓度表述:通过俄歇电子能谱法,从基材表面起至20nm的深度沿着深度方向进行组成分析,将Cu、Zn和O的原子数的总计设为100%时,由基材表面至该深度的Zn的平均原子浓度和Cu的平均原子浓度表述;

所述进行利用俄歇电子能谱法的深度方向的组成分析时的深度是指使用SiO2标准物质的蚀刻速度8.0nm/min,由溅射时间进行换算时的深度。

8.根据权利要求7所述的色调处理方法,其中,在氨的存在下实施气相氧化。

9.根据权利要求7或8所述的色调处理方法,其中,所述利用气相氧化的色调控制通过使选自氨的浓度、氧气的浓度、反应体系内的湿度、反应体系内的温度、处理时间、物体的温度中的一种以上发生变化来进行。

10.根据权利要求7或8所述的色调处理方法,其中,所述气相氧化在20℃~80℃的氛围温度下实施。

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