[发明专利]描绘装置及描绘方法有效

专利信息
申请号: 201780085286.X 申请日: 2017-11-30
公开(公告)号: CN110249266B 公开(公告)日: 2021-08-27
发明(设计)人: 长尾竜也;乘光良直;中井一博;北村清志 申请(专利权)人: 株式会社斯库林集团
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;H05K3/00
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 宋晓宝;陈林
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 描绘 装置 方法
【说明书】:

描绘装置(1)的光调制部(46)对来自光源(43)的光进行调制。扫描机构(2)在基板(9)上扫描通过光调制部(46)而调制的光。控制部(6)根据描绘数据控制光调制部(46)及扫描机构(2),以执行对基板(9)的描绘。控制部(6)具备存储部及数据生成部。关于显示基板(9)的来自基准状态的伸缩程度的多个伸缩率,存储部预先存储对以各伸缩率伸缩的基板(9)进行描绘的情况的图像的行程长度数据(run‑length data)而作为多个初始描绘数据。数据生成部利用选择描绘数据生成所述描绘数据,该选择描绘数据是根据基板(9)的实际伸缩率而自多个初始描绘数据中选出的一个初始描绘数据。由此,可迅速且精度良好地对产生伸缩的基板(9)进行描绘。

技术领域

本发明涉及一种在对象物上描绘图像的技术。

背景技术

当前,通过对形成于半导体基板、印刷电路基板或者电浆显示设备或液晶显示设备用的玻璃基板等(以下,称为“基板”)的感光材料照射光,而进行图案的描绘。近年来,伴随图案的高精细化,利用有一种描绘装置,其在感光材料上扫描经调制的光束而直接描绘图案。

在所述的描绘装置中,在基板产生有翘曲、畸形、失真等变形的情况下,配合基板的变形而补正描绘数据。通常通过测量设置于基板上的对准标记等的标记的位置,且根据测量结果计算出基板上的各位置的位移后,使各位置的描绘数据与该位移整合而进行描绘数据的补正。

例如,在日本专利第5752967号公报(文献1)中,提出有一种根据描绘图案的衬底图案来求得偏移量从而补正描绘数据时,对应于比像素尺寸小的偏移量而对描绘数据进行补正的技术。具体而言,在文献1的描绘装置中,从第1栅格化开始位置将以向量数据记述的描绘图案栅格化而获取第1描绘数据。此外,从第2栅格化开始位置将描绘图案栅格化而获取第2描绘数据,其中,该第2栅格化开始位置是从第1栅格化开始位置位移了比像素尺寸小的位移量的位置。然后,选择第1描绘数据及第2描绘数据中的与用以补正相对于衬底图案的位置偏移的补正量对应的描绘数据,且根据该补正量进行补正。

此外,在不是这种衬底图案的局部失真(即,非线形失真),而是产生有基板整体的伸缩(即,线形失真)的情况下,在已知的描绘装置中进行机械式的补正。具体而言,调整在感光材料上进行扫描的光束的调制间隔,并且,调整光束的扫描区域的宽度方向上的步进移动的间隔。从而,使描绘于基板上的图案纵横伸缩。

然而,在薄膜基板、印刷电路基板、树脂基板或金属基板等的伸缩较大的基板中,在如上述的描绘装置的机械性补正中,存在有不能与基板的伸缩对应的情况。

发明内容

本发明是用于将图像描绘在对象物上的描绘装置,其目的在于迅速地对产生伸缩的对象物进行描绘。本发明还可以是用于将图像描绘在对象物上的描绘方法。

本发明的描绘装置具备:光源;光调制部,其对来自所述光源的光进行调制;扫描机构,其在对象物上扫描通过所述光调制部调制的光;及控制部,其根据描绘数据控制所述光调制部及所述扫描机构,从而执行对所述对象物的描绘;所述控制部具备:存储部,其针对显示所述对象物从基准状态的伸缩程度的多个伸缩率,预先存储对以各伸缩率伸缩的所述对象物进行描绘的情况的图像的行程长度数据,作为多个初始描绘数据;及数据生成部,其利用选择描绘数据生成所述描绘数据,该选择描绘数据,是根据所述对象物的实际伸缩率而从所述多个初始描绘数据中选出的一个初始描绘数据。根据该描绘装置,可迅速地对产生伸缩的对象物进行描绘。

在本发明的一优选实施方式中,还具备摄像部,其拍摄位于所述对象物上的多个标记,所述控制部还具备伸缩率获取部,该伸缩率获取部根据所述摄像部的摄像结果,获取所述多个标记的测量位置,且比较所述多个标记的所述测量位置与设计位置,从而获取所述对象物的实际伸缩率。

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