[发明专利]光学系统

权利要求书

1.一种光学系统，包括：

-至少一个物镜(2)；

-光学滤波器(F)；以及

-成像透镜(4b)，或包括多个孔径元件的第一孔径阵列(4)；

其中，所述至少一个物镜(2)、所述光学滤波器(F)和所述成像透镜(4b)或所述第一孔径阵列(4)沿光轴(8)布置，以在所述成像透镜(4b)上或在所述第一孔径阵列(4)上形成所述光学滤波器(F)的至少一个投影，并且其中，所述光学系统还包括滤波器选择装置(FSM)，用于选择将提供给所述成像透镜(4b)或所述第一孔径阵列(4)的已被滤波的电磁辐射。

2.根据前述权利要求所述的系统，其中，所述成像透镜(4b)或所述第一孔径阵列(4)布置在光学系统中，以形成将在第二孔径阵列(S)或第二孔径阵列平面(SP)上被滤波的物体的至少一个投影。

3.根据前述权利要求中任一项所述的系统，其中，所述滤波器选择装置(FSM)被配置成选择滤波器(F)的一个滤波地带或多个滤波地带，以选择将提供给所述成像透镜(4b)或所述第一孔径阵列(4)的已被滤波的电磁辐射。

4.根据前述权利要求中任一项所述的系统，其中，所述滤波器选择装置(FSM)包括多个可寻址区域，所述多个可寻址区域被配置成允许或阻挡电磁辐射通过所述区域，以分别允许或阻挡电磁辐射通过所述滤波器选择装置。

5.根据前述权利要求中任一项所述的系统，其中，所述滤波器选择装置(FSM)被配置成限定电磁辐射通过的至少一个或多个图案。

6.根据前述权利要求中任一项所述的系统，其中，所述滤波器选择装置(FSM)被配置成限定电磁辐射通过的透明带。

7.根据前述权利要求中任一项所述的系统，其中，所述滤波器选择装置(FSM)被配置成限定电磁辐射通过的透明带，并且被配置成限定所述透明带周围的阻挡电磁辐射的传输的不透明区域或地带。

8.根据前述权利要求中任一项所述的系统，其中，所述滤波器选择装置(FSM)被配置成限定电磁辐射通过的透明带，并且被配置成限定所述透明带周围的阻挡电磁辐射的传输的不透明区域或地带，以使得仅所述透明带允许电磁辐射通过到达所述成像透镜(4b)或所述第一孔径阵列(4)。

9.根据权利要求6至8中任一项所述的系统，其中，所述滤波器选择装置(FSM)被配置成移位或扫描所述透明带以允许频谱扫描。

10.根据权利要求6至9中任一项所述的系统，其中，所述滤波器选择装置(FSM)被配置成移位或扫描所述透明带以执行推扫式扫描。

11.根据前述权利要求中任一项所述的系统，其中，所述滤波器选择装置(FSM)位于所述滤波器(F)的下游，或者位于所述滤波器(F)的上游。

12.根据前述权利要求中任一项所述的系统，其中，所述滤波器选择装置(FSM)直接或间接地接触所述滤波器(F)。

13.根据前述权利要求中任一项所述的系统，其中，所述滤波器选择装置(FSM)包括电子可寻址光学装置或仅由电子可寻址光学装置组成，所述电子可寻址光学装置包括液晶和多个电子可寻址地带、区域或包括液晶材料的像素。

14.根据前述权利要求中任一项所述的系统，其中，所述滤波器选择装置(FSM)包括空间光调制器、液晶装置(LCD)或数字微镜装置(DMD)或仅由空间光调制器、液晶装置(LCD)或数字微镜装置(DMD)组成。

15.根据前述权利要求中任一项所述的系统，其中，所述第一孔径阵列(4)是包括多个图像形成元件的图像形成元件阵列(4)。