[发明专利]具有滤波器和透镜阵列的成像传感器

权利要求书

1.一种红外成像设备，包括：

滤波器阵列(110)，其包括：(i)多个间隔开的滤波器元件(116)；(ii)反射涂层(114)，其中，所述反射涂层在所述多个间隔开的滤波器元件中的每个之间被设置在所述滤波器阵列上；以及(iii)多个透镜(112)，其中，所述多个透镜中的每个与所述多个间隔开的滤波器元件中相应的一个对准并且被配置为将电磁辐射聚焦成射束；以及

成像传感器阵列(120)，其与所述滤波器阵列隔开第一距离并且包括多个像素元件(122)，其中，所述多个像素元件中的每个与来自所述多个间隔开的滤波器元件中相应的一个的聚焦射束对准。

2.根据权利要求1所述的红外成像设备，其中，所述成像阵列包括微测热辐射计。

3.根据权利要求1所述的红外成像设备，其中，所述像素元件(122)中的每个包括多个像素。

4.根据权利要求3所述的红外成像设备，其中，所述多个像素元件中的至少一个包括至少第一多个像素，所述第一多个像素包括第一材料，并且所述多个像素元件中的至少一个还包括第二多个像素，所述第二多个像素包括第二材料。

5.根据权利要求1所述的红外成像设备，其中，所述多个间隔开的滤波器元件中的每个包括窄带通滤波器，所述窄带通滤波器具有对应于目标麻醉剂或气体的中心波长。

6.根据权利要求5所述的红外成像设备，其中，所述多个间隔开的滤波器元件中的每个的中心波长不与任何其他滤波器元件的中心波长交叠。

7.根据权利要求1所述的红外成像设备，其中，所述反射涂层被配置为最小化相邻像素元件之间的信号串扰。

8.根据权利要求1所述的红外成像设备，其中，所述多个透镜被定位在所述滤波器阵列的第二侧(126)上，所述滤波器阵列的所述第二侧面向所述成像传感器阵列。

9.根据权利要求1所述的红外成像设备，其中，所述多个透镜被定位在所述滤波器阵列的第一侧(124)上，所述滤波器阵列的所述第一侧背向所述成像传感器阵列。

10.根据权利要求1所述的红外成像设备，其中，所述多个像素元件至少包括第一像素元件和第二像素元件，所述第一像素元件包括第一材料，所述第二像素元件包括第二材料。

11.根据权利要求1所述的红外成像设备，其中，所述多个间隔开的滤波器元件中的至少一个基本上是不透明的。

12.根据权利要求1所述的红外成像设备，其中，所述多个间隔开的滤波器元件中的第一个的中心波长是目标麻醉剂或气体的第一峰值吸收波长，并且其中，所述多个间隔开的滤波器元件中的第二个的中心波长是所述目标麻醉剂或气体的第二峰值吸收波长。

13.根据权利要求1所述的红外成像设备，其中，所述设备被配置为检测目标麻醉剂的浓度和目标呼吸气体的浓度。

14.根据权利要求1所述的红外成像设备，其中，所述反射涂层包括金、铂、钛、钯、镍、铜、铝和/或其组合。