[发明专利]具有改进的光学组的立体光刻机

权利要求书

1.一种用于制造三维物体(O)的立体光刻机(1)，其属于包括以下各项的类型：

-用于流体物质(R)的容器(2)，所述流体物质(R)适配成用于通过曝光于至少一个预定辐射(RL，RL1，RL2)而在各层(S)中被固化；

-所述至少一个预定辐射(RL，RL1，RL2)的至少一个源(3，31，32)；

-光学组(4)，其被配置成将所述至少一个辐射(RL，RL1，RL2)朝向布置在所述容器(2)内的所述流体物质(R)的参考表面(SR)引导；

-控制逻辑单元(5)，其被配置成控制所述光学组(4)和/或所述至少一个辐射源(3，31，32)，以便将所述参考表面(SR)的至少一部分曝光于所述辐射(RL，RL1，RL2)；

其特征在于：

-所述光学组(4)包括：

-第一子光学组(41)，其被配置成待曝光于所述至少一个辐射(RL，RL1，RL2)，以便将与所述三维物体(O)的体积的一部分相对应的待固化的第一部分的图像瞬时投射到所述参考表面(SR)上；

-第二子光学组(42)，其被配置成朝向所述参考表面(SR)的一点选择性地运送所述至少一个辐射(RL，RL1，RL2)并移动所述点以便逐渐曝光所述参考表面(SR)的与所述三维物体(O)的体积的一部分相对应的待固化的第二部分；

-所述控制逻辑单元(5)被配置成彼此独立地控制所述第一子光学组(41)和所述第二子光学组(42)。

2.如权利要求1所述的立体光刻机(1)，其特征在于，所述第二子光学组(42)包括彼此串联布置的一对反射镜(421)，以便将所述至少一个辐射(RL，RL1，RL2)朝向所述参考表面(SR)的一点运送并且移动所述点以便逐渐曝光所述参考表面(SR)的所述第二部分。

3.如权利要求2所述的立体光刻机(1)，其特征在于，所述一对反射镜(421)属于检流计头。

4.如权利要求2所述的立体光刻机(1)，其特征在于，所述一对反射镜(421)中的每个反射镜是通过接合装置与支撑结构相关联的微镜，所述接合装置被配置成限定所述微镜的旋转轴，所述微镜和所述支撑结构属于微光电机械系统(MOEMS)，所述两个微光电机械系统(MOEMS)中的每一者还包括适配成使所述微镜围绕所述轴(X1，X2)移动的致动器装置。

5.如前述权利要求中的任一项所述的立体光刻机(1)，其特征在于，所述第一子光学组(41)设置有反射镜矩阵(411)，所述反射镜矩阵(411)被配置成被独立地控制以便将待固化的所述第一部分的所述图像瞬时投影到所述参考表面(SR)上。

6.如前述权利要求中的任一项所述的立体光刻机(1)，其特征在于，

-所述至少一个预定辐射(RL，RL1，RL2)的所述至少一个源(3，31，32)是所述辐射(RL)的单个源(31)；

-所述控制逻辑单元(5)被配置成控制所述源(3)，以便将所述辐射(RL)朝向所述第一子光学组(41)或朝向所述第二子光学组(42)交替地引导。

7.如权利要求1-5中的任一项所述的立体光刻机(1)，其特征在于，所述立体光刻机(1)包括指向所述第一子光学组(41)的第一预定辐射(RL1)的第一源(31)和指向所述第二子光学组(42)的第二预定辐射(RL2)的第二源(32)，所述控制单元(5)被配置成控制所述第一子光学组(41)和/或所述第一源(31)以便将所述参考表面(SR)的所述第一部分曝光于所述第一辐射(RL1)并且同时或交替地控制所述第二子光学组(42)和/或所述第二源(32)以便将所述参考表面(SR)的所述第二部分曝光于所述第二辐射(RL2)。