[发明专利]硅酸盐覆盖体及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201780086269.8 申请日: 2017-05-30
公开(公告)号: CN110366537B 公开(公告)日: 2023-04-07
发明(设计)人: 清家隆一;林刚芳;冈田友彦;末吉舞 申请(专利权)人: 都美工业株式会社;国立大学法人信州大学
主分类号: C01B33/42 分类号: C01B33/42
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 马倩;梅黎
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 硅酸盐 覆盖 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.硅酸盐覆盖体,其具备:

云母粒子;

附着于所述云母粒子表面的二氧化硅和/或二氧化硅改性物;以及

介由所述二氧化硅和/或二氧化硅改性物而覆盖至少一部分所述云母粒子的第一硅酸盐。

2.根据权利要求1所述的硅酸盐覆盖体,其中,所述云母粒子的中值粒径为0.1μm~500μm。

3.根据权利要求1或2所述的硅酸盐覆盖体,其中,所述第一硅酸盐与所述二氧化硅和/或二氧化硅改性物是一体的。

4.根据权利要求1或2所述的硅酸盐覆盖体,其中,所述第一硅酸盐包含蒙脱石系硅酸盐。

5.根据权利要求4所述的硅酸盐覆盖体,其中,所述蒙脱石系硅酸盐包含锂蒙脱石。

6.根据权利要求1所述的硅酸盐覆盖体,其还具备离子性有机色素。

7.根据权利要求6所述的硅酸盐覆盖体,其中,所述离子性有机色素吸附于所述第一硅酸盐。

8.根据权利要求6或7所述的硅酸盐覆盖体,其中,所述离子性有机色素为亚甲基蓝、罗丹明B、赤藓红B、酒石黄、晚霞黄FCF和亮蓝FCF中的至少一者。

9.根据权利要求6或7所述的硅酸盐覆盖体,其还具备多价阳离子,

所述离子性有机色素包含阴离子性有机色素。

10.根据权利要求9所述的硅酸盐覆盖体,其中,所述多价阳离子为镁离子、钙离子、铝离子和钡离子中的至少一者。

11.硅酸盐覆盖体的制造方法,其包括:

将供给蒙脱石系硅酸盐的构成元素的原料、溶解至少一部分所述原料的溶解剂和基体在溶剂中混合而制作混合液的混合工序;

将所述混合液进行加热处理的加热工序;以及

将所述混合液进行冷却的冷却工序,

所述原料包含二氧化硅粉末,

所述基体包含云母、滑石、氧化铝和玻璃中的至少一者,

所述二氧化硅粉末中的粒子小于所述基体,

所述粒子能够附着于所述基体的表面。

12.根据权利要求11所述的硅酸盐覆盖体的制造方法,其中,在所述混合工序中,所述二氧化硅粉末相对于所述基体1质量份为0.02质量份~0.7质量份。

13.根据权利要求11或12所述的硅酸盐覆盖体的制造方法,其中,将所述粒子的平均粒径设为1时,所述基体的中值粒径为10以上。

14.根据权利要求11或12所述的硅酸盐覆盖体的制造方法,其中,所述溶剂为水,

所述混合液的加热处理在加压条件下进行。

15.根据权利要求11或12所述的硅酸盐覆盖体的制造方法,其中,所述蒙脱石系硅酸盐包含锂蒙脱石。

16.根据权利要求11或12所述的硅酸盐覆盖体的制造方法,其中,所述溶解剂包含溶解所述二氧化硅粉末的表面部分的化合物。

17.根据权利要求11或12所述的硅酸盐覆盖体的制造方法,其中,所述原料包含含镁化合物和含锂化合物,

所述溶解剂包含脲。

18.根据权利要求11或12所述的硅酸盐覆盖体的制造方法,其还包括:向包含水的水性溶剂中添加所述硅酸盐覆盖体和离子性有机色素的添加工序。

19.根据权利要求18所述的硅酸盐覆盖体的制造方法,其中,所述离子性有机色素包含阴离子性有机色素时,在所述水性溶剂中进一步添加电离出多价阳离子的盐。

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