[发明专利]光学涂层具有残留压缩应力的经涂覆的制品

权利要求书

1.一种经涂覆的制品，其包括：

包含主表面的基材；

光学涂层，其布置在基材的主表面上并形成空气侧表面，所述光学涂层包括一层或多层沉积材料；

其中，

至少一部分的光学涂层包括大于约50 MPa的残留压缩应力；

光学涂层包括约0.4％或更大的失效应变，这是通过环上环拉伸测试过程测得的；

光学涂层包括12 GPa或更大的最大硬度，这是通过布氏压痕计硬度测试，沿着约50nm和更大的压痕深度，在空气侧表面上测得的；以及

经涂覆的制品包括约80％或更大的平均适光透射率。

2.如权利要求1所述的经涂覆的制品，其具有以下一种情况：

(i)光学涂层包括：厚度是约350nm至小于约600nm；失效应变大于约0.65％；和最大硬度是14 GPa或更大；以及

(ii)光学涂层包括：厚度是约600nm或更大；涂层失效应变大于约0.4％；和最大硬度是13 GPa或更大。

3.如权利要求1或2所述的经涂覆的制品，其中，光学涂层包含残留应力的部分还包括多种可离子交换金属离子和多种经离子交换金属离子，所述经离子交换金属离子包括的原子半径大于所述可离子交换金属离子的原子半径。

4.如权利要求1或2所述的经涂覆的制品，其中，通过机械喷粒在光学涂层上赋予残留压缩应力。

5.如权利要求1或2所述的经涂覆的制品，其中，所述至少一部分的光学涂层包括热膨胀系数以及基材包括热膨胀系数，其中，基材包括的热膨胀系数大于所述至少一部分的光学涂层的热膨胀系数，其中，热膨胀系数是在约20℃至约300℃的温度范围上测量的。

6.如权利要求5所述的经涂覆的制品，其中，基材的热膨胀系数与所述至少一部分的光学涂层的热膨胀系数之比是约1.2:1或更大。

7.如权利要求1-6中任一项所述的经涂覆的制品，其中，光学涂层展现出约14 GPa或更大的最大硬度。

8.如权利要求1-7中任一项所述的涂覆制品，其中，基材包括无定形基材或晶体基材。

9.一种消费电子产品，其包括：

具有前表面、背表面和侧表面的外壳；

至少部分提供在所述外壳内的电子组件，所述电子组件至少包括控制器、存储器和显示器，所述显示器提供在所述外壳的前表面处或者与所述外壳的前表面相邻；和

布置在所述显示器上的覆盖玻璃，其中，外壳或者覆盖玻璃的一部分中的至少一个包括如权利要求1-8中任一项所述的经涂覆的制品。

10.一种制造经涂覆的制品的方法，所述方法包括：

在基材的主表面上沉积光学涂层，所述光学涂层形成空气侧表面并且包括一层或多层沉积材料；

其中，

至少一部分的光学涂层包括大于约50 MPa的残留压缩应力；

光学涂层包括约0.4％或更大的失效应变，这是通过环上环拉伸测试过程测得的；

光学涂层包括12 GPa或更大的最大硬度，这是通过布氏压痕计硬度测试，沿着约50nm和更大的压痕深度，在空气侧表面上测得的；以及

经涂覆的制品包括约80％或更大的平均适光透射率。

11.如权利要求10所述的方法，其具有以下一种情况：

(i)光学涂层包括：厚度是约350nm至小于约600nm；失效应变大于约0.65％；和最大硬度是14 GPa或更大；以及

(ii)光学涂层包括：厚度是约600nm或更大；涂层失效应变大于约0.4％；和最大硬度是13 GPa或更大。

12.如权利要求10或11所述的方法，其还包括通过对沉积的光学涂层进行离子交换加工，在光学涂层上赋予残留压缩应力。