[发明专利]薄玻璃基板及其制造方法和设备

权利要求书

1.一种用于制造薄玻璃基板的方法；

其中，在熔融之后和热成型工艺之前，针对要获得的所述薄玻璃基板，以限定的方式调节待成型的或者至少已部分成型的玻璃的粘度；以及

在输送到热成型装置之前，以限定的方式，调节待热成型的玻璃的粘度，

其中通过限定冷却，调节待热成型的玻璃的粘度，

并且其中，下列等式适用于在用于控制玻璃流流速的组件下游最远1.5m距离上的第一次拉伸时的粘度η₁，其中，y₁表示到紧靠所述用于控制玻璃流流速的组件下游的位置的距离：

lgη₁(y₁)/dPa·s＝(lgη₀₁/dPa·s+a₁(y₁))

其中，0m≤y₁≤1.5m，3.75≤lgη₀₁/dPa·s≤4.5，a₁(y₁)＝1.00/m*y₁；

其中η₀₁表示第一次拉伸时紧靠所述用于控制玻璃流流速的组件下游位置处的粘度。

2.根据权利要求1所述的用于制造薄玻璃基板的方法，其中所述方法是用于连续制造薄玻璃基板的方法。

3.根据权利要求1或2所述的用于制造薄玻璃基板的方法，其中，在进给唇口上游，调节所述粘度。

4.根据权利要求1或2所述的用于制造薄玻璃基板的方法，其中，在进给唇口上游，在输送到金属熔池上之前，调节所述粘度。

5.根据权利要求1或2所述的用于制造薄玻璃基板的方法，其中，在用于控制玻璃流流速的组件上游，调节所述粘度。

6.根据权利要求1或2所述的用于制造薄玻璃基板的方法，其中，在用于控制玻璃流流速的组件上游，在输送到金属熔池上之前，调节所述粘度。

7.根据权利要求1或2所述的用于制造薄玻璃基板的方法，其中，所述待成型的或者至少已部分成型的玻璃的粘度如下：

在熔融槽通道的端部和所述用于控制玻璃流流速的组件上游处，至少lgη/dPa·s＝3.75至至多lgη/dPa·s＝4.5；

和/或

其中，下列等式适用于从所述用于控制玻璃流流速的组件下游12m距离处直到所述用于控制玻璃流流速的组件下游16m距离处的第二次拉伸时的粘度η₂，其中，y₂表示到紧靠所述用于控制玻璃流流速的组件下游的位置的距离：

lgη₂(y₂)/dPa·s＝(lgη₀₂/dPa·s+a₂(y₂))，

其中，12m≤y₂≤16m，

7.05≤lgη₀₂/dPa·s≤7.6，

a₂(y₂)＝0.788/m*(y₂–12m)；

其中η₀₂表示第二次拉伸时距所述用于控制玻璃流流速的组件下游12m位置处的粘度。

8.根据权利要求1或2所述的用于制造薄玻璃基板的方法，其包括：使用拉伸工艺进行热成型。

9.根据权利要求1或2所述的用于制造薄玻璃基板的方法，其包括：使用浮法工艺、下拉工艺和/或熔融工艺进行热成型。

10.根据权利要求1或2所述的用于制造薄玻璃基板的方法，其包括：使用溢流熔融下拉工艺进行热成型。

11.根据权利要求1或2所述的用于制造薄玻璃基板的方法，其包括：使用Li-Al-Si玻璃、Al-Si玻璃、硼硅酸盐玻璃或K-Na-Si玻璃中的一种，用于热成型所述薄玻璃基板。