[发明专利]粘合片有效
申请号: | 201780087474.6 | 申请日: | 2017-02-28 |
公开(公告)号: | CN110337711B | 公开(公告)日: | 2022-11-04 |
发明(设计)人: | 高野健;菊池和浩;柄泽泰纪 | 申请(专利权)人: | 琳得科株式会社 |
主分类号: | H01L21/56 | 分类号: | H01L21/56 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 王利波 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 粘合 | ||
1.一种粘合片,其是在对粘合片上的半导体元件进行密封时使用的粘合片,
该粘合片具备基材、和包含粘合剂组合物的粘合剂层,
所述粘合剂层的利用在100℃的气体氛围中对硅的芯片拉力试验求出的值为3.0N/芯片以上,并且,
将所述粘合剂层粘贴于聚酰亚胺膜并于190℃加热1小时后,其在40℃气体氛围中对所述聚酰亚胺膜的粘合力为1.0N/25mm以下。
2.根据权利要求1所述的粘合片,其中,将所述粘合片的所述粘合剂层粘贴于聚酰亚胺膜并于190℃加热1小时后,其在40℃气体氛围中对所述聚酰亚胺膜的粘合力为0.1N/25mm以上。
3.根据权利要求1或2所述的粘合片,其中,将所述粘合片的所述粘合剂层粘贴于聚酰亚胺膜并于190℃加热1小时后,其在室温下对所述聚酰亚胺膜的粘合力为0.4N/25mm以上且10.0N/25mm以下。
4.根据权利要求1或2所述的粘合片,其中,所述基材在100℃下的储能模量为1×107Pa以上。
5.根据权利要求1或2所述的粘合片,其中,所述粘合剂层由丙烯酸类粘合剂组合物或有机硅类粘合剂组合物形成。
6.根据权利要求5所述的粘合片,其中,所述粘合剂层由丙烯酸类粘合剂组合物形成。
7.根据权利要求6所述的粘合片,其中,所述丙烯酸类粘合剂组合物包含丙烯酸类共聚物,
所述丙烯酸类共聚物包含源自(甲基)丙烯酸烷基酯的共聚物成分,
所述(甲基)丙烯酸烷基酯的烷基的碳原子数为6~10。
8.根据权利要求7所述的粘合片,其中,源自(甲基)丙烯酸烷基酯的共聚物成分的质量在所述丙烯酸类共聚物的总质量中所占的比例为90质量%以上。
9.根据权利要求7或8所述的粘合片,其中,所述丙烯酸类共聚物包含以(甲基)丙烯酸2-乙基己酯为主要单体的丙烯酸类共聚物。
10.根据权利要求7或8所述的粘合片,其中,所述丙烯酸类共聚物包含源自具有羟基的单体的共聚物成分。
11.根据权利要求10所述的粘合片,其中,所述源自具有羟基的单体的共聚物成分的质量在所述丙烯酸类共聚物的总质量中所占的比例为3质量%以上。
12.根据权利要求7或8所述的粘合片,其中,所述丙烯酸类粘合剂组合物包含使至少配合有所述丙烯酸类共聚物和交联剂的组合物交联而得到的交联物,所述交联剂以具有异氰酸酯基的化合物为主成分。
13.根据权利要求6~8中任一项所述的粘合片,其中,所述丙烯酸类粘合剂组合物含有粘合助剂,所述粘合助剂包含具有反应性基团的低聚物。
14.根据权利要求13所述的粘合片,其中,所述粘合剂组合物包含使至少配合有丙烯酸类共聚物、所述粘合助剂及交联剂的组合物交联而得到的交联物,所述交联剂以具有异氰酸酯基的化合物为主成分。
15.根据权利要求5所述的粘合片,其中,所述粘合剂层由有机硅类粘合剂组合物形成,所述有机硅类粘合剂组合物包含加聚型有机硅树脂。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造