[发明专利]光学布置、特别是光刻系统

权利要求书

1.一种光学布置，包括：

可移动部件，

至少一个致动器(4)，移动所述部件(3)，以及

至少一个止挡件(6)，具有限制所述部件的移动的止挡面(12)，

其特征在于，

其中所述止挡件(6)具有阻尼装置(10)，以衰减所述止挡面(12)的移动，

所述止挡件(6)具有绕旋转轴线(7)可枢转的杠杆臂(8)，并且当所述杠杆臂(8)绕其旋转轴线(7)枢转时，所述止挡面(12)总是以平行方式位移。

2.如权利要求1所述的光学布置，其中所述光学布置用于光刻系统(1)。

3.如权利要求1所述的光学布置，其中所述可移动部件是反射镜(3)。

4.根据权利要求1所述的光学布置，还包括：

至少一个其他致动器(9)，相对于所述可移动部件(3)移动所述止挡件(6)，以及

至少一个距离传感器(13)，确定所述止挡件(6)的止挡面(12)和所述可移动部件(3)之间的距离(A)。

5.根据权利要求4所述的光学布置，其中所述距离传感器(13)配置为无接触地确定所述止挡件(6)的止挡面(12)和所述可移动部件(3)之间的距离(A)。

6.根据权利要求4所述的光学布置，还包括闭环控制装置(14)，以控制所述止挡件(6)相对于所述可移动部件(3)的移动的距离(A)小于5毫米。

7.根据权利要求4所述的光学布置，其中所述其他致动器(9)配置为液压致动器或气动致动器。

8.一种光学布置，包括：

可移动部件，

至少一个致动器(4)，移动所述部件(3)，以及

至少一个止挡件(6)，具有限制所述部件的移动的止挡面(12)，

其中所述止挡件(6)具有至少一个膜(15)，在所述至少一个膜(15)的一侧形成所述止挡面(12)并且在其另一侧(16)邻接空间(18)，所述空间(18)相对于环境密封并且允许流体(21)能够进入其中，以改变所述膜(15)的曲率(R)。

9.根据权利要求8所述的光学布置，还包括：

至少一个其他致动器(9)，相对于所述可移动部件(3)移动所述止挡件(6)，以及

至少一个距离传感器(13)，确定所述止挡件(6)的止挡面(12)和所述可移动部件(3)之间的距离(A)。

10.根据权利要求9所述的光学布置，其中所述距离传感器(13)配置为无接触地确定所述止挡件(6)的止挡面(12)和所述可移动部件(3)之间的距离(A)。

11.根据权利要求9所述的光学布置，还包括闭环控制装置(14)，以控制所述止挡件(6)相对于所述可移动部件(3)的移动的距离(A)小于5毫米。

12.根据权利要求9所述的光学布置，其中所述其他致动器(9)配置为液压致动器或气动致动器。

13.根据权利要求8或9所述的光学布置，其中所述止挡件(6)具有绕旋转轴线(7)可枢转的杠杆臂(8)。

14.一种光学布置，包括：

可移动部件，

至少一个致动器(4)，移动所述部件(3)，以及

至少一个止挡件(6)，具有限制所述部件的移动的止挡面(12)，其中所述可移动部件是反射镜(3)，

其特征在于，

所述反射镜(3)具有带第一基板部分(26a)和第二基板部分(26b)的基板(26)，在所述第一基板部分(26a)上形成反射表面(3a)，其中所述第二基板部分(26b)由具有比所述第一基板部分(26a)更大的弹性模量(E₂)与密度(ρ₂)的比率和/或更大的断裂长度(L_R2)的材料制成。