[发明专利]窄带化模块

说明书

窄带化模块具有在第1面内使激光折射的棱镜以及在第1面内使激光分散的光栅，窄带化模块对激光进行窄带化。窄带化模块包含第1要素、旋转机构、第2要素、第3要素和第4要素，第2要素在第1要素与第4要素之间被第1要素支承，旋转机构构成为使第2要素相对于第1要素以与第1面交叉的轴为中心旋转，棱镜位于第2要素与第4要素之间，被第2要素支承以通过旋转机构而与第2要素一起旋转，第3要素具有弹性，以压缩状态位于棱镜与第4要素之间，第4要素承受来自压缩状态的第3要素的反作用力，第2要素在旋转机构的旋转方向上机械地独立于第4要素。

技术领域

本公开涉及窄带化模块。

背景技术

随着半导体集成电路的微细化和高集成化，在半导体曝光装置中要求分辨率的提高。下面将半导体曝光装置简称为“曝光装置”。因此，从曝光用光源输出的光的短波长化得以发展。在曝光用光源中代替现有的汞灯而使用气体激光装置。当前，作为曝光用的气体激光装置，使用输出波长为248nm的紫外线的KrF准分子激光装置、以及输出波长为193nm的紫外线的ArF准分子激光装置。

作为当前的曝光技术，利用液体充满曝光装置侧的投影透镜与晶片之间的间隙，通过改变该间隙的折射率而使曝光用光源的外观的波长变短的液浸曝光已经实用化。在使用ArF准分子激光装置作为曝光用光源进行液浸曝光的情况下，对晶片照射水中的波长为134nm的紫外光。将该技术称为ArF液浸曝光。ArF液浸曝光也被称为ArF液浸光刻。

KrF、ArF准分子激光装置的自然振荡的谱线宽度较宽，大约为350～400pm，因此，产生通过曝光装置侧的投影透镜缩小投影到晶片上的激光(紫外线光)的色差，分辨率降低。因此，需要将从气体激光装置输出的激光的谱线宽度窄带化到能够忽视色差的程度。谱线宽度也被称为谱宽度。因此，在气体激光装置的激光谐振器内设置具有窄带化元件的窄带化模块(Line Narrow Module)，通过该窄带化模块实现谱宽度的窄带化。另外，窄带化元件可以是标准具或光栅等。这样，将谱宽度被窄带化的激光装置称为窄带化激光装置。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2003-249708号公报

专利文献2：美国专利申请公开第2013/0208744号说明书

专利文献3：国际公开第2006/060360号公报

专利文献4：日本特开2007-047502号公报

发明内容

本公开的一个观点的窄带化模块具有在第1面内使激光折射的棱镜以及在第1面内使激光分散的光栅，该窄带化模块对激光进行窄带化。窄带化模块包含第1要素、旋转机构、第2要素、第3要素和第4要素，第2要素在第1要素与第4要素之间被第1要素支承，旋转机构构成为，使第2要素相对于第1要素以与第1面交叉的轴为中心旋转，棱镜位于第2要素与第4要素之间，该棱镜被第2要素支承以通过旋转机构而与第2要素一起旋转，第3要素具有弹性，以压缩状态位于棱镜与第4要素之间，第4要素承受来自压缩状态的第3要素的反作用力，第2要素在旋转机构的旋转方向上机械地独立于第4要素。

本公开的另一个观点的窄带化模块具有在第1面内使激光折射的棱镜以及在第1面内使激光分散的光栅，该窄带化模块对激光进行窄带化。窄带化模块包含第1要素、旋转机构、第2要素、第3要素、第4要素和第5要素，第2要素在第1要素与第4要素之间被第1要素支承，旋转机构构成为，使第2要素相对于第1要素以与第1面交叉的轴为中心旋转，棱镜位于第2要素与第4要素之间，该棱镜被第2要素支承以通过旋转机构而与第2要素一起旋转，第3要素具有弹性，以压缩状态位于棱镜与第4要素之间，第4要素承受来自压缩状态的第3要素的反作用力，第5要素被固定于第2要素，第4要素具有接受第5要素的一部分的孔，在孔与孔的内部的第5要素之间，在旋转机构的旋转方向上存在间隙。