[发明专利]投影光学系统、图像投影装置以及图像投影系统在审

专利信息
申请号: 201780088969.0 申请日: 2017-11-06
公开(公告)号: CN110462481A 公开(公告)日: 2019-11-15
发明(设计)人: 内田恒夫;山田克 申请(专利权)人: 松下知识产权经营株式会社
主分类号: G02B17/08 分类号: G02B17/08;G02B13/18;G03B21/14
代理公司: 11021 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 韩丁<国际申请>=PCT/JP2017/
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 反射 投影光学系统 透射光学系统 被投影面 基准光线 主光线 反射光学系统 图像显示元件 局部光焦度 孔径光阑 出射光 反射面 位置处 入射 透镜 放大投影 不平行 显示面 投影 图像
【说明书】:

投影光学系统(100)是用于在被投影面(SC)放大投影图像显示元件(130)的图像的投影光学系统,具备透射光学系统(110)和反射光学系统(120)。透射光学系统(110)包含多个透镜和孔径光阑。反射光学系统(120)具有:对来自透射光学系统(110)的出射光进行反射的第1反射面、和对来自第1反射面的出射光进行反射的第2反射面。被投影面(SC)与图像显示元件(130)的显示面不平行。基准光线(R)的主光线是被投影于被投影面(SC)的最靠投影光学系统(100)侧的光线之中通过孔径光阑的中心的光线。基准光线(R)的主光线入射到第1反射面的位置处的第1反射面的局部光焦度比基准光线(R)的主光线入射到第2反射面的位置处的第2反射面的局部光焦度强。

技术领域

本公开涉及用于对图像显示元件生成的图像进行投影的投影光学系统。

背景技术

专利文献1公开了一种使用了包含反射面的投影光学系统的投影装置。该投影光学系统是一种用于将形成于灯泡的图像放大投影于投影面的投影光学系统,包含透镜光学系统、第1反射面、第2反射面。透镜光学系统包含多个透镜,为了在投影面与灯泡之间,形成图像的中间像而具有正的光焦度。第1反射面为了对成像中间像之后的扩散的光束进行反射、使其成像在投影面上而具有正的光焦度。第2反射面使来自透镜光学系统的射出光入射到第1反射面。由此,能够投影减少了色差以及失真的大画面。

但是,在专利文献1所述的投影装置中,从第1反射面到第2反射面的距离较大。因此,导致投影装置的大型化(高背化)。

在先技术文献

专利文献

专利文献1:JP特开2013-174886号公报

发明内容

本公开提供一种小型并且能够减少图像失真的投影光学系统。

本公开所涉及的投影光学系统是一种用于在被投影面放大投影图像显示元件的图像的投影光学系统,具备透射光学系统和反射光学系统。透射光学系统包含多个透镜和孔径光阑。反射光学系统具有:对来自透射光学系统的出射光进行反射的第1反射面、和对来自第1反射面的出射光进行反射的第2反射面。被投影面与图像显示元件的显示面不平行。基准光线的主光线是被投影于被投影面的最靠投影光学系统侧的光线之中通过孔径光阑的中心的光线。基准光线的主光线入射到第1反射面的位置处的第1反射面的局部光焦度比基准光线的主光线入射到第2反射面的位置处的第2反射面的局部光焦度强。投影光学系统满足以下的条件式(1)以及(2)。

1.0<θscn/θm2<50.0···(1)

3.0<D1/D2<15.0···(2)

这里,θscn是基准光线的主光线入射到被投影面的位置处的被投影面的法线与基准光线的主光线所成的角度。θm2是基准光线的主光线入射到第2反射面的位置处的第2反射面的法线与基准光线的主光线所成的角度。D1是从图像显示元件的显示面到第1反射面的基准光线的主光线的光路长度。D2是从第1反射面到第2反射面的基准光线的主光线的光路长度。

通过本公开的投影光学系统,能够使图像投影装置小型化,并且能够减少图像失真。

附图说明

图1是对本公开的图像投影系统进行说明的结构图。

图2是对本公开的图像投影装置进行说明的结构图。

图3是对本公开的投影光学系统的透射光学系统进行说明的结构图。

图4是对本公开的图像投影装置的光路的一部分进行说明的图。

图5是数值实施例1中的图像投影系统的结构图。

图6是数值实施例2中的图像投影系统的结构图。

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