[发明专利]转印型感光性膜有效
| 申请号： | 201780089046.7 | 申请日： | 2017-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN110462560B | 公开（公告）日： | 2023-07-28 |
| 发明（设计）人： | 南征志;向郁夫;吉田英树;渡边治;渡部和仁;渡边匠;鲇濑友洋;海老原雅彦;奥田唯史 | 申请（专利权）人： | 株式会社力森诺科 |
| 主分类号： | G06F3/041 | 分类号： | G06F3/041 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 王灵菇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 转印型 感光性 | ||
1.一种转印型感光性膜，其具备：
支撑膜，和
设置于所述支撑膜上的第一树脂层；
所述第一树脂层包含具有三环癸烷骨架或三环癸烯骨架的光聚合性化合物、和酰基氧化膦系光聚合引发剂，
所述第一树脂层包含粘合剂聚合物，所述粘合剂聚合物含有在侧链具有支链结构和/或脂环结构的基团、在侧链具有酸性基团的基团、以及在侧链具有烯键式不饱和基团的基团，
所述粘合剂聚合物含有构成在侧链具有支链结构和/或脂环结构的基团的单体、构成在侧链具有酸性基团的基团的单体、以及构成在侧链具有烯键式不饱和基团的基团的单体作为构成所述粘合剂聚合物的单体，
以构成所述粘合剂聚合物的单体总量为基准计，构成在侧链具有支链结构和/或脂环结构的基团的单体的比例为20～60摩尔％，构成在侧链具有酸性基团的基团的单体的比例为20～50摩尔％，构成在侧链具有烯键式不饱和基团的基团的单体的比例为20～50摩尔％，
相对于所述粘合剂聚合物和所述第一树脂层中所含的光聚合性化合物的总量100质量份，所述第一树脂层含有5质量份以上的所述具有三环癸烷骨架或三环癸烯骨架的光聚合性化合物。
2.根据权利要求1所述的转印型感光性膜，其中，
所述酰基氧化膦系光聚合引发剂包含2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基-氧化膦。
3.根据权利要求1或2所述的转印型感光性膜，其中，
所述第一树脂层还包含肟酯系光聚合引发剂。
4.根据权利要求1所述的转印型感光性膜，其中，
所述粘合剂聚合物的重均分子量为10000～200000。
5.根据权利要求1或2所述的转印型感光性膜，其中，
所述粘合剂聚合物的酸值为75～200mgKOH/g。
6.根据权利要求1或2所述的转印型感光性膜，其中，
所述第一树脂层的厚度为1～15μm。
7.根据权利要求1或2所述的转印型感光性膜，其还具备：
设置在所述第一树脂层上的含有金属氧化物粒子的第二树脂层。
8.根据权利要求7所述的转印型感光性膜，其中，
所述第二树脂层包含具有三环癸烷骨架或三环癸烯骨架的光聚合性化合物。
9.根据权利要求7所述的转印型感光性膜，其中，
所述第二树脂层具有与第一树脂层相比更高的折射率，
所述第二树脂层在633nm下的折射率为1.40～1.90。
10.根据权利要求7所述的转印型感光性膜，其中，
所述金属氧化物粒子在波长633nm下的折射率为1.50以上。
11.根据权利要求7所述的转印型感光性膜，其中，
所述第二树脂层含有酰基氧化膦系光聚合引发剂。
12.根据权利要求7所述的转印型感光性膜，其中，
所述第二树脂层含有粘合剂聚合物，
所述粘合剂聚合物为含有来自(甲基)丙烯酸和(甲基)丙烯酸烷基酯的结构单元的共聚物。
13.根据权利要求7所述的转印型感光性膜，其中，
所述第二树脂层的厚度为0.01～1μm。
14.根据权利要求1或2所述的转印型感光性膜，其用于在具有ITO电极图案和折射率匹配层的基材上形成固化膜。
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