[发明专利]用于预陶瓷聚合物立体光刻的孔系统

权利要求书

1.一种用于自底向上的立体光刻装置的储液器结构，所述储液器结构包括：

具有下部开口的储液器；

孔系统，所述孔系统包括：

柔性隔膜，所述柔性隔膜定位在所述储液器内并覆盖所述下部开口；和

顺应性释放层，所述顺应性释放层在所述储液器的所述下部开口中位于所述柔性隔膜的下方，所述顺应性释放层横跨所述下部开口并与所述柔性隔膜分离；和

边界密封件，所述边界密封件围绕所述柔性隔膜的周边定位，所述边界密封件包括一个或多个边界密封部件且抵靠所述储液器固定所述柔性隔膜的周边，

其中，所述顺应性释放层具有30OO到65A的硬度。

2.根据权利要求1所述的储液器结构，所述孔系统还包括：

透明窗口，所述透明窗口在所述柔性隔膜下方且在所述储液器的所述下部开口中，所述透明窗口覆盖所述下部开口。

3.根据权利要求1所述的储液器结构，其中，所述顺应性释放层具有低于所述柔性隔膜的硬度，并且所述柔性隔膜具有低于具有固化的光聚合物部件的所述顺应性释放层的粘合潜力。

4.根据权利要求1所述的储液器结构，其中，所述边界密封件包括树脂交换部件。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的储液器结构，其中，所述柔性隔膜被构造成具有与用于立体光刻的树脂大于40°的接触角度。

6.根据权利要求1-4中任一项所述的储液器结构，其中，所述柔性隔膜被构造为具有小于200N/m的相对于固化的光聚合物树脂部件的层间剥离强度。

7.根据权利要求1-4中任一项所述的储液器结构，其中，所述柔性隔膜包括从由以下材料构成的组中选择的一个：聚苯乙烯(PS)、聚甲基戊烯(PMP)、环状烯烃共聚物(COC)、氟化乙烯丙烯(FEP)、全氟烷氧基烷烃(PFA)、聚四氟乙烯(PTFE)和其混合物。

8.根据权利要求1-4中任一项所述的储液器结构，其中，所述柔性隔膜具有10μm至750μm的厚度。

9.根据权利要求2所述的储液器结构，其中，所述透明窗口包括玻璃、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、双轴取向聚对苯二甲酸乙二醇酯(BOPET)、聚甲基戊烯(PMP)、环烯烃共聚物(COC)、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)或其混合物。

10.根据权利要求2所述的储液器结构，其中，所述透明窗口具有0.1mm至16mm的厚度。

11.根据权利要求2所述的储液器结构，其中，所述顺应性释放层和所述透明窗口被一体形成且被包括在所述下部开口中作为单个主体。

12.根据权利要求1-4中任一项所述的储液器结构，其中，所述顺应性释放层包括硅酮、氨基甲酸酯、氟化聚合物或其混合物。

13.根据权利要求1-4中任一项所述的储液器结构，其中，所述顺应性释放层包括气体或液体，所述气体或液体包括氮气、氩气、空气、水、乙醇、油、不具有光引发剂成分的树脂或其混合物。

14.根据权利要求1-4中任一项所述的储液器结构，其中，所述顺应性释放层具有0.1mm至13mm的厚度。

15.根据权利要求1-4中任一项所述的储液器结构，所述孔系统还包括在所述柔性隔膜和所述顺应性释放层之间的一定体积的气体或液体。

16.根据权利要求1-4中任一项所述的储液器结构，其中，所述边界密封部件包括可逆的机械连接件。