[发明专利]电容器的冷却构造和激光装置有效
申请号: | 201780092684.4 | 申请日: | 2017-08-07 |
公开(公告)号: | CN110800174B | 公开(公告)日: | 2023-05-16 |
发明(设计)人: | 胜海久和;藤本准一;田中智史 | 申请(专利权)人: | 极光先进雷射株式会社 |
主分类号: | H01S3/041 | 分类号: | H01S3/041;H01G2/08 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 于英慧;崔成哲 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电容器 冷却 构造 激光 装置 | ||
为了对具有第1电极和第2电极的电容器进行冷却,电容器的冷却构造包含:导电部,其与第1电极电连接;绝缘部,其具有包含第1位置的第1面和包含第2位置的第2面,在第1位置处与导电部连接;第1紧固部,其对导电部和绝缘部进行紧固;以及冷却部,其与和第1位置对置的第2位置连接,导电部和冷却部通过绝缘部而电绝缘。
技术领域
本公开涉及电容器的冷却构造和激光装置。
背景技术
近年来,在半导体曝光装置(以下称为“曝光装置”)中,随着半导体集成电路的微细化和高集成化,要求分辨率的提高。因此,从曝光用光源放出的光的短波长化得以发展。一般而言,在曝光用光源中代替现有的汞灯而使用气体激光装置。例如,作为曝光用的气体激光装置,使用输出波长为248nm的紫外线的激光的KrF准分子激光装置、以及输出波长为193nm的紫外线的激光的ArF准分子激光装置。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2009-111313号公报
专利文献2:日本特开2015-133281号公报
专利文献3:日本特开2003-249703号公报
专利文献4:日本特开2009-289944号公报
发明内容
本公开的一个观点的电容器的冷却构造对具有第1电极和第2电极的电容器进行冷却,其中,电容器的冷却构造包含:导电部,其与第1电极电连接;绝缘部,其具有包含第1位置的第1面和包含第2位置的第2面,该绝缘部在第1位置处与导电部连接;第1紧固部,其对导电部和绝缘部进行紧固;以及冷却部,其与和第1位置对置的第2位置连接,导电部和冷却部通过绝缘部而电绝缘。
本公开的另一个观点的激光装置包含:激光腔;一对放电电极,其被配置于激光腔;脉冲功率模块,其具有峰化电容器,并构成为对一对放电电极之间施加脉冲电压;预电离机构,其具备具有第1电极和第2电极的预电离电容器,并构成为使激光腔的内部的气体的一部分电离;导电部,其与第1电极电连接;绝缘部,其具有包含第1位置的第1面和包含第2位置的第2面,该绝缘部在第1位置处与导电部连接;第1紧固部,其对导电部和绝缘部进行紧固;以及冷却部,其与和第1位置对置的第2位置连接,导电部和冷却部通过绝缘部而电绝缘。
附图说明
下面,参照附图将本公开的若干个实施方式作为简单例子进行说明。
图1示意地示出比较例的激光装置的结构。
图2示意地示出比较例的激光装置的结构。
图3是脉冲功率模块和预电离机构的电路图。
图4A是示出第1实施方式的激光装置中的峰化电容器和预电离电容器的配置的俯视图。
图4B是图4A的IVB-IVB线处的剖视图。
图5A是示出第2实施方式的激光装置中的峰化电容器和预电离电容器的配置的俯视图。
图5B是图5A的VB-VB线处的剖视图。
图5C是图5A的VC-VC线处的剖视图。
图6A是示出参考例的激光装置中的峰化电容器和预电离电容器的配置的俯视图。
图6B是图6A的VIB-VIB线处的剖视图。
具体实施方式
内容
1.比较例
1.1激光装置的结构
1.2激光装置的动作
1.3脉冲功率模块和预电离机构的详细情况
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