[发明专利]表面改性装置

说明书

从放电电极中直接排出气体，减少置换气体排放量的同时，还能够使气压分布均匀，以稳定地生成等离子体。放电室C内的放电电极E由多个电极构件8、9构成。并且，这些多个电极构件8、9夹持支撑构件4而相向配置，同时在这些多个电极构件8、9的相向部分形成有空隙，该空隙作为气体通道15向放电电极的前端开口。并且，从歧管3供给的置换气体经由节流孔供给到上述气体通道15中。

技术领域

本发明涉及一种通过电晕放电对处理基材表面进行表面处理的表面改性装置。

背景技术

关于此种表面改性装置，对以树脂膜为处理基材的现有例进行说明。

在电极室内，设置放电电极，与该放电电极相向设置作为相向电极的处理滚轴。

并且，在电极室内，供给与表面改性的目对应的置换气体，将电极室内保持在置换气体环境下，同时对放电电极施加高频电压，以在放电电极与上述处理滚轴之间产生电场。

通过向由此产生的电场供给置换气体，沿处理滚轴运送的树脂膜表面发生改性。

并且，表面改性的精度因电极室内置换气体的浓度而异，因此，如果置换气体浓度不均，则在浓度较浓的位置与较稀薄的位置，其改性精度不同。

而且，电极室的大小必须与通过处理滚轴运送的树脂膜尺寸相对应。因此，当树脂膜宽度达到10m的情况下，电极室也必须对应该树脂膜的宽度，则电极室的容积相当大。

由此，在大容积电极室内，为将其中气体浓度固定在一定水平，必须加大置换气体供给量，相应地会降低生产率。

于是，在专利文献1中公开一种方法，在放电电极与作为相向电极的处理滚轴之间的放电部分，向该局部位置直接供给置换气体。

例如，专利文献1中所公开的一种装置，由放电电极直接供给置换气体。如此处理，可以向放电电极与处理滚轴之间的放电部分这一局部位置直接供给置换气体，因此，便于将该局部位置的置换气体保持在一定浓度。而且，不必使置换气体充满整个电极室即可解决问题，因此相应地可以抑制置换气体的使用量。

并且，专利文献1装置中的放电电极由长度基本对应树脂膜宽度的块构成，同时，在作为放电电极的块体长度方向上形成切口，使该切口连接在供给置换气体的供给源上。

由此，由气体供给源所供给的置换气体从切口直接供给作为放电部分的局部位置。

如上所述，如果向放电部分直接供给置换气体，与向整个电极室供给置换气体的情况相比，可以大大减少置换气体供给量。

而且，可以向放电部分这一局部位置供给置换气体，所以，即便置换气体供给量减少，也几乎不会对等离子体的生成造成影响。

由此，通过向放电部分这一局部位置直接供给置换气体，可以期望达到减少置换气体供给量，而不会降低等离子体的生成能力的效果。

专利文献1：特公平06－002830号公报

发明内容

所要解决的技术问题

如上所述，如果将切口直接连接在气体供给源上，则气体供给管附近处的气压增高，距离气体供给管较远处的气压降低，由此难以保证在切口的长度方向上的气压均衡。

由此造成切口内气压分布不均，则导致各处气体量不同，进而表面改性精度产生偏差。

尤其在减少置换气体供给量这一课题之下，上述气压分布不均成为大问题。因为，如减少置换气体供给量，则气压较低部分的置换气体量极端减少，以使该部分的表面改性的精度恶化。由此，如果气体浓度稳定性受损，处理基材的表面改性也不稳定，减少气体供给量这一优势完全被抵消。