[发明专利]提供离子束的系统和方法在审
申请号: | 201780093793.8 | 申请日: | 2017-10-11 |
公开(公告)号: | CN111212679A | 公开(公告)日: | 2020-05-29 |
发明(设计)人: | E.佩皮尔;A.沙汉姆;S.艾森曼;Y.费伯;Y.赫费茨;O.沙维特;B.温菲尔德;S.布林克-达南 | 申请(专利权)人: | 希尔应用医学有限公司 |
主分类号: | A61N5/10 | 分类号: | A61N5/10 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 胡琪 |
地址: | 以色列*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 提供 离子束 系统 方法 | ||
1.一种用于生成质子束的系统,所述系统包括:
相互作用室,其被配置为支撑离子生成靶;
电磁辐射源,其被配置为提供电磁辐射束;
一个或多个光学组件,其被配置为将所述电磁辐射束引导到所述离子生成靶处,由此引起合成的质子束;
检测器,其被配置为测量至少一个激光靶相互作用特性;以及
至少一个处理器,其被配置为基于由所述检测器测量的所述至少一个激光靶相互作用特性来产生反馈信号,并通过调节以下中的至少一个来更改所述质子束:所述电磁辐射源、所述一个或多个光学组件,以及所述电磁辐射束到所述离子生成靶的相对位置和取向中的至少一个。
2.根据权利要求1所述的用于生成质子束的系统,其中,所述激光靶相互作用特性包括质子束特性。
3.根据权利要求1所述的用于生成质子束的系统,其中,所述激光靶相互作用特性包括二次电子发射特性。
4.根据权利要求1所述的用于生成质子束的系统,其中,所述激光靶相互作用特性包括x射线发射特性。
5.根据权利要求1所述的用于生成质子束的系统,其中,所述电磁辐射源和所述至少一个处理器中的至少一个被配置为提供脉冲电磁辐射束,并由此引起脉冲质子束。
6.根据权利要求1所述的用于生成质子束的系统,其中,所述相互作用室包括用于支撑所述离子生成靶的靶台,并且所述至少一个处理器还被配置为引起所述靶台与所述电磁辐射束之间的相对运动。
7.根据权利要求1所述的用于生成质子束的系统,其中可以至少部分地基于根据测量的激光靶相互作用特性生成的产生的反馈信号来确定所述离子生成靶的结构。
8.根据权利要求2所述的用于生成质子束的系统,其中,所述至少一个激光靶相互作用特性包括质子束能量。
9.根据权利要求2所述的用于生成质子束的系统,其中,所述至少一个激光靶相互作用特性包括质子束通量。
10.根据权利要求1所述的用于生成质子束的系统,其中,所述电磁辐射源被配置为响应于所述反馈信号来更改所述电磁辐射束的时间分布。
11.根据权利要求1所述的用于生成质子束的系统,其中,所述电磁辐射源被配置为生成主脉冲和预脉冲,并且所述至少一个处理器被配置为使所述电磁辐射源响应于所述反馈信号而更改预脉冲与主脉冲的对比度。
12.根据权利要求1所述的用于生成质子束的系统,其中,所述至少一个处理器被配置为使所述电磁辐射源响应于所述反馈信号而更改所述电磁辐射束的能量。
13.根据权利要求1所述的用于生成质子束的系统,其中,所述至少一个处理器被配置为使所述电磁辐射源响应于所述反馈信号而更改所述电磁辐射束的空间分布。
14.根据权利要求1所述的用于生成质子束的系统,其中,所述至少一个处理器被配置为使所述一个或多个光学组件响应于所述反馈信号而更改所述电磁辐射束的光斑大小。
15.根据权利要求1所述的用于生成质子束的系统,其中,所述至少一个处理器被配置为使电动机响应于所述反馈信号而更改所述电磁辐射束与所述离子生成靶之间的相对取向。
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