[发明专利]核磁共振摄像装置用静磁场调整器具及超导磁体在审
申请号: | 201780095926.5 | 申请日: | 2017-10-26 |
公开(公告)号: | CN111315293A | 公开(公告)日: | 2020-06-19 |
发明(设计)人: | 福井秀树;松田哲也 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
主分类号: | A61B5/055 | 分类号: | A61B5/055 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 邓晔;宋俊寅 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 核磁共振 摄像 装置 磁场 调整 器具 超导 磁体 | ||
MRI用静磁场调整器具(150)包括匀场体托盘(152)、底部间隔物(157)及磁性体匀场体(154)。匀场体托盘(152)安装于MRI,设有匀场体槽(153)。底部间隔物收纳于匀场体槽(153),使得与匀场体槽(153)的底面相接,由非磁性体构成。磁性体匀场体(154)与匀场体槽(153)的底面之间夹有底部间隔物(157),收纳于匀场体槽(153),由磁性体构成。
技术领域
本发明主要涉及对形成于核磁共振摄像装置的摄像区域的静磁场进行调整的器具、以及包括该器具的超导磁体。
背景技术
在设置使用了静磁场磁体的核磁共振摄像装置(以下称为MRI)时,如专利文献1所记载的那样对静磁场进行调整(以下称为匀场),以使得该MRI的摄像区域中的静磁场具有较高的均匀性。在匀场中,将由被称为匀场体(shim)的长方形的磁性体所构成的板状的构件收纳于设有多个凹部的托盘的该凹部内。然后,将收纳有匀场体的托盘安装于MRI。由此,将摄像区域中的静磁场以在MRI中所需要的程度调整为均匀的状态。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本专利特开2008-289703号公报
发明内容
发明所要解决的技术问题
然而,在进行匀场时,预先利用计算机等对将收纳有匀场体的托盘安装于MRI的情况下对静磁场的影响、即磁场输出值进行计算。然后,基于该计算的结果,来实际决定收纳于托盘的匀场体的量。但是,即使将基于计算的结果而决定的量的匀场体收纳于托盘,摄像区域的静磁场也不会以在MRI中所需要的程度成为均匀的状态,即,存在所计算出的磁场输出值与实际的磁场输出值之间存在偏离的问题。
本发明是鉴于上述情况而完成的,其目的在于,获得一种能抑制所计算出的磁场输出值与实际的磁场输出值之间的偏离的MRI用静磁场调整器具、以及包括该MRI用静磁场调整器具的超导磁体。
解决技术问题所采用的技术方案
为了解决上述问题,达到目的,本发明所涉及的MRI用静磁场调整器具包括:匀场体托盘,该匀场体托盘安装于MRI,并设有凹部;底部间隔物,该底部间隔物收纳于凹部,使得与凹部的底面相接,并且由非磁性体构成;以及磁性体匀场体,该磁性体匀场体与底面之间夹有底部间隔物,该磁性体匀场体收纳于凹部,并且由磁性体构成。
技术效果
根据本发明,能对所计算出的磁场输出值与实际的磁场输出值之间的偏离进行抑制。
附图说明
图1是表示实施方式1所涉及的MRI的外观的立体图。
图2是表示实施方式1所涉及的包含MRI用静磁场调整器具的超导磁体的简要结构的一个示例的图。
图3是表示实施方式1所涉及的MRI用静磁场调整器具的安装状态的图。
图4是实施方式1所涉及的MRI用静磁场调整器具的立体图。
图5是图4的A-A截面上的剖视图。
图6是匀场的流程图。
图7是关于MRI用静磁场调整器具中的匀场体槽内的磁性体匀场体的位置示出通过仿真来假定的位置的图。
图8是表示现有的MRI用静磁场调整器具中的匀场体槽内的磁性体匀场体的位置的图。
图9是实施方式2所涉及的MRI用静磁场调整器具的立体图。
图10是图9的B-B截面上的剖视图。
具体实施方式
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三菱电机株式会社,未经三菱电机株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201780095926.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。