[发明专利]基质膜形成装置

权利要求书

1.一种基质膜形成装置，其特征在于，

该基质膜形成装置具有：

a)喷雾喷嘴，其具备作为管状流路的溶液管和作为与所述溶液管并行的流路且顶端位于所述溶液管的顶端附近的气体管；

b)气体输送部件，其向所述气体管的基端侧输送高压气体；以及

c)加压溶液输送部件，其对含有基质辅助激光解吸电离法中使用的基质物质的溶液进行加压，并将所述溶液向所述溶液管的基端侧输送。

2.根据权利要求1所述的基质膜形成装置，其特征在于，

该基质膜形成装置还具有：

d)控制部件，其对所述气体输送部件和所述加压溶液输送部件进行控制，以执行喷嘴清洗模式，在该喷嘴清洗模式中，在停止了利用所述气体输送部件向所述气体管的气体输送的状态下，利用所述加压溶液输送部件进行所述溶液的输送。

3.根据权利要求1所述的基质膜形成装置，其特征在于，

所述加压溶液输送部件具有：

e)密闭容器，其贮存有所述溶液；

f)溶液配管，其一端与所述溶液管的基端侧连接，另一端配置在所述密闭容器内的下部；以及

g)加压用气体导入部件，其向所述密闭容器内的上部空间导入气体。

4.根据权利要求3所述的基质膜形成装置，其特征在于，

所述气体输送部件具有：

h)气体源，其用于供给非活性气体；以及

i)气体流路，其将所述气体管的基端侧与所述气体源相连，

所述加压用气体导入部件将自设于所述气体输送部件的所述气体源供给的非活性气体向所述密闭容器内的上部空间导入。

5.根据权利要求1所述的基质膜形成装置，其特征在于，

所述加压溶液输送部件具有：

j)溶液容器，其容纳有所述溶液；以及

k)阻力管，其插装在从该溶液容器到所述溶液管的基端侧的溶液流路上，且具有比所述溶液管中的流路阻力大的流路阻力。