[发明专利]基质膜形成装置

权利要求书

1.一种基质膜形成装置，其特征在于，

该基质膜形成装置具有：

a)腔室，其容纳有供样品板安装的样品台；

b)喷雾喷嘴，其朝向所述样品台喷雾溶液，所述溶液含有基质辅助激光解吸电离法中使用的基质物质；

c)气体导入口，其形成于所述腔室；

d)置换气体供给部件，其向所述气体导入口供给置换气体；以及

e)置换气体扩散部件，其使所述腔室内的所述置换气体的流动扩散。

2.根据权利要求1所述的基质膜形成装置，其特征在于，

所述置换气体扩散部件具有置换气体扩散板，所述置换气体扩散板是配置在所述气体导入口与所述样品台之间的形成有多个孔的板。

3.根据权利要求1所述的基质膜形成装置，其特征在于，

所述置换气体扩散部件具有置换气体扩散管，所述置换气体扩散管是配置在所述腔室内的管，其一端与所述气体导入口连接，且在周面形成有多个开口。

4.根据权利要求1所述的基质膜形成装置，其特征在于，

该基质膜形成装置还具有：

f)气体排出口，其形成于所述腔室，

所述置换气体扩散部件具有迂回板，所述迂回板配置在所述样品板与所述气体排出口之间，使朝向所述气体排出口的气体流迂回。

5.根据权利要求1所述的基质膜形成装置，其特征在于，

该基质膜形成装置还具有：

g)气体排出口，其形成于所述腔室，

在执行由所述喷雾喷嘴进行的喷雾的过程中，所述腔室的除所述气体导入口和气体排出口以外的部分被密闭。

6.根据权利要求1所述的基质膜形成装置，其特征在于，

该基质膜形成装置还具有：

h)控制部件，其对所述置换气体供给部件进行控制，以使在执行由所述喷雾喷嘴进行的所述溶液的喷雾的过程中向所述气体导入口供给所述置换气体。

7.根据权利要求1所述的基质膜形成装置，其特征在于，

所述置换气体供给部件以比自所述喷雾喷嘴喷出的喷雾气体的流量大的流量向所述气体导入口供给所述置换气体。

8.根据权利要求1所述的基质膜形成装置，其特征在于，

所述置换气体供给部件通过向所述气体导入口供给所述置换气体，而使所述置换气体以比自所述喷雾喷嘴喷出的喷雾气体在所述腔室内的线速度小的线速度自所述气体导入口喷出。

9.根据权利要求1所述的基质膜形成装置，其特征在于，

该基质膜形成装置还具有：

i)气体源和将自该气体源供给的非活性气体向所述喷雾喷嘴供给的喷雾气体供给部件，

所述置换气体供给部件将自设于所述喷雾气体供给部件的所述气体源供给的非活性气体作为所述置换气体向所述气体导入口供给。