[发明专利]冷却沉积源的方法、用于冷却沉积源的腔室和沉积系统

说明书

本发明描述了一种冷却沉积源(200)的方法(100)。所述方法包括：停止(110)从沉积源沉积材料，所述沉积源布置在沉积腔室(250)中；并且将冷却气体引入(120)沉积腔室(250)中，所述冷却气体包含λ≥0.05[W/(m*K)]的导热率λ。进一步，本发明描述一种用于冷却沉积源的腔室。所述腔室包括布置在腔室中的沉积源。此外，腔室包括冷却气体供应系统，所述冷却气体供应系统被配置用于提供冷却气体至腔室中，所述冷却气体包含λ≥0.05[W/(m*K)]的导热率λ。

技术领域

本公开内容的实施方式涉及沉积源的冷却，特别是涉及用于冷却沉积源的方法、腔室和系统。特别地，本公开内容的实施方式涉及用于冷却沉积源的方法、腔室和系统，所述沉积源用于将蒸发的材料沉积在基板上，特别是用于OLED制造。

背景技术

有机蒸发器是用于产生有机发光二极管(organic light-emitting diodes；OLED)的工具。OLED是其中发射层包含某些有机化合物的薄膜的特殊类型的发光二极管。有机发光二极管(OLED)用于制造例如用于显示信息的电视屏幕、计算机显示器、移动电话及其他手持式设备。OLED也可用于一般的空间照明。OLED显示器的色彩、亮度和视角的范围可大于传统LCD显示器的色彩、亮度和视角的范围，因为OLED像素直接发光而不涉及背光。因此，OLED显示器的能耗显著低于传统LCD显示器的能耗。此外，OLED可制造在柔性基板上的事实产生了进一步应用。

典型地，蒸发的材料通过蒸汽源的一或多个出口被引导朝向基板。例如，蒸汽源可具有多个喷嘴，所述喷嘴被配置用于将蒸发材料的羽流引导朝向基板。蒸汽源可相对于基板移动以用于利用蒸发材料涂布基板。

典型地，用于在基板上沉积蒸发材料的沉积源的操作温度可高达600℃。为了沉积源的维护、维修或更换，沉积腔室必须排空空气并且向环境开放。因此，沉积源必须被冷却例如至低于100℃的温度。用于将沉积源从操作温度冷却至100℃或更低温度所需的时间直接影响沉积源的可用生产时间。

因此，鉴于上文，存在对于用于冷却源的可利用其降低生产的停机时间的改进的方法、腔室和系统的需要。

发明内容

鉴于上文，本发明提供了根据独立权利要求的冷却沉积源的方法、用于冷却沉积源的腔室，和沉积系统。进一步的方面、优点和特征是从从属权利要求书、实施方式和附图中显而易见。

根据本公开内容的一方面，提供一种冷却沉积源的方法。所述方法包括停止从沉积源沉积材料，所述沉积源被布置在沉积腔室中。此外，所述方法包括引入冷却气体至沉积腔室中，冷却气体包含λ≥0.05[W/(m*K)]的导热率。

根据本公开内容的进一步方面，提供一种冷却蒸发源的方法，所述蒸发源在沉积腔室中提供。所述方法包括将被配置用于蒸发材料的坩埚的坩埚加热器断电。此外，所述方法包括保持蒸发源的分配组件的加热，直至材料蒸发已停止为止，分配组件与坩埚流体连通。另外，所述方法包括以1mbar≤p≤100mbar的压力p将冷却气体引入沉积腔室中，冷却气体包含λ≥0.05[W/(m*K)]的导热率λ；并且将冷却气体提供至分配组件与屏蔽布置之间的自由空间中。屏蔽布置被布置在距分配组件的距离D处，以用于提供自由空间。此外，方法包括通过使用与屏蔽布置接触的冷却系统来冷却屏蔽布置。

根据本公开内容的另一方面，提供一种用于冷却沉积源的腔室。所述腔室包括沉积源，所述沉积源布置在用于冷却沉积源的腔室中。此外，腔室包括冷却气体供应系统，所述冷却气体供应系统被配置用于提供冷却气体至腔室中以用于冷却沉积源，所述冷却气体包含λ≥0.05[W/(m*K)]的导热率λ。

根据本公开内容的进一步方面，提供一种用于在基板上沉积层的沉积系统。根据本文所述的任何实施方式，沉积系统包括用于冷却沉积源的腔室。