[发明专利]光学系统以及光学设备

说明书

光学系统(LS)具备满足以下条件式的透镜(L22、L33)：ndLZ+(0.01425×νdLZ)2.12、νdLZ35.0其中，ndLZ：透镜的对d线的折射率νdLZ：透镜的以d线为基准的阿贝数。

技术领域

本发明涉及光学系统、光学设备以及光学系统的制造方法。

背景技术

近年来，在数码相机和摄像机等拍摄装置中使用的拍摄元件正在推进高像素化。设置于使用了这种拍摄元件的拍摄装置的摄影镜头优选为如下的镜头：除了球面像差、彗差等基础像差(单一波长的像差)以外，还良好地对色差进行校正，以在白色光源下在像的颜色中没有模糊，且具有高分辨率。特别是，优选的是，在色差的校正中，除了初级消色差以外，还良好地校正二级光谱。作为校正色差的手段，例如公知有使用具有反常色散特性的树脂材料的方法(例如，参照专利文献1)。如上所述，伴随近年来的拍摄元件的高像素化，期望实现良好地对各像差进行了校正的摄影镜头。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2016-194609号公报

发明内容

第1方式的光学系统具有满足以下条件式的透镜：

ndLZ+(0.01425×νdLZ)2.12

νdLZ35.0

其中，ndLZ：所述透镜的对d线的折射率

νdLZ：所述透镜的以d线为基准的阿贝数。

第2方式的光学设备，构成为具备上述光学系统。

第3方式的光学系统的制造方法，以具有满足以下条件式的透镜的方式，在镜头镜筒内配置各透镜：

ndLZ+(0.01425×νdLZ)2.12

νdLZ35.0

其中，ndLZ：所述透镜的对d线的折射率

νdLZ：所述透镜的以d线为基准的阿贝数。

附图说明

图1是第1实施例的光学系统的无限远对焦状态下的透镜结构图。

图2是第1实施例的光学系统的无限远对焦状态下的各像差图。

图3是第2实施例的光学系统的无限远对焦状态下的透镜结构图。

图4(A)、图4(B)以及图4(C)分别是第2实施例的光学系统的广角端状态、中间焦距状态、远焦端状态下的无限远对焦时的各像差图。

图5是第3实施例的光学系统的无限远对焦状态下的透镜结构图。

图6是第3实施例的光学系统的无限远对焦状态下的各像差图。

图7是第4实施例的光学系统的无限远对焦状态下的透镜结构图。

图8(A)、图8(B)以及图8(C)分别是第4实施例的光学系统的广角端状态、中间焦距状态、远焦端状态下的无限远对焦时的各像差图。

图9是第5实施例的光学系统的无限远对焦状态下的透镜结构图。

图10(A)、图10(B)以及图10(C)分别是第5实施例的光学系统的广角端状态、中间焦距状态、远焦端状态下的无限远对焦时的各像差图。

图11是第6实施例的光学系统的无限远对焦状态下的透镜结构图。

图12是第6实施例的光学系统的无限远对焦状态下的各像差图。

图13是第7实施例的光学系统的无限远对焦状态下的透镜结构图。