[发明专利]蒸镀掩模、蒸镀方法以及有机EL显示设备的制造方法

权利要求书

1.一种蒸镀掩模，其特征在于，包含：

掩模本体，形成有开口图案；以及

框架，接合所述掩模本体的周缘部的至少一部分，将所述掩模本体保持在一定的状态；其中

所述框架形成为面板在内包空隙的柱状的核心部的至少一部分的对向的面被贴设的夹心构造体。

2.根据权利要求1所述的蒸镀掩模，其特征在于，

所述框架由金属材料形成，所述核心部的空隙形成为广义的蜂窝状构造体。

3.根据权利要求1或2所述的蒸镀掩模，其特征在于，

所述掩模本体是形成所述开口图案的树脂膜、以及以不堵塞所述树脂膜的所述开口图案的方式形成开口的金属支撑层被贴敷的混合掩模。

4.根据权利要求1或2所述的蒸镀掩模，其特征在于，

所述掩模本体是包含形成所述开口图案的金属薄板的金属掩模。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的蒸镀掩模，其特征在于，

所述框架为额缘状的矩形形状，在接合所述树脂膜的所述框架的边中，所述空隙是以从被所述框架包围的内部朝向所述框架的外部的方式形成。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的蒸镀掩模，其特征在于，

所述掩模本体的周缘部的向所述框架的接合为，折弯所述掩模本体的周缘部的一部分，藉此接合到与所述框架的内侧相反的外周侧壁。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的蒸镀掩模，其特征在于，

在内包所述空隙的所述框架的外周壁整体贴设有以磁性金属板形成的面板。

8.根据权利要求7所述的蒸镀掩模，其特征在于，

被所述面板包围的所述空隙被减压。

9.根据权利要求7所述的蒸镀掩模，其特征在于，

在被所述面板包围的所述空隙填充惰性气体。

10.一种蒸镀方法，其特征在于，包含：

以被蒸镀基板、与权利要求1至9中任一项所述的蒸镀掩模重合的方式配置的工序；以及

藉由来自与所述蒸镀掩模分离而配置的蒸镀源的蒸镀材料的飞散而在所述被蒸镀基板堆积所述蒸镀材料的工序。

11.根据权利要求10所述的蒸镀方法，其特征在于，

所述蒸镀掩模的框架为额缘状的矩形形状，以所述空隙部从被以所述框架包围的内部朝向所述框架的外部的方式形成的框架的边成为上下的方式，配置所述被蒸镀基板以及所述蒸镀掩模。

12.一种有机EL显示设备的制造方法，其特征在于，包含：

在支撑基板上至少形成TFT以及第一电极；

在所述支撑基板上使用权利要求10或11所述的蒸镀方法蒸镀有机材料而藉此形成有机层的层叠膜；以及

在所述层叠膜上形成第二电极。