[发明专利]利用微流控芯片构型和动力学进行光力测量和细胞成像的微流控芯片设备

权利要求书

1.一种设备，包括：

包括复数条通道的基板，所述通道被配置为运输一种或多种物质，其中所述复数条通道包括：

第一通道，垂直布置在所述基板内，

第二通道，与所述第一通道可操作地连通，水平布置在所述基板内，

第三通道，与所述第二通道可操作地连通，垂直布置在所述基板内，

第四通道，与所述第三通道可操作地连通，水平布置在所述基板内；

其中所述第一、第二、第三和第四通道的布置方式为所述一种或多种物质从所述第一通道到所述第二通道到所述第三通道到所述第四通道移动通过所述基板的提供了路径。

2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述一种或多种物质通过底部水平平面表面被注入垂直布置在所述基板内的所述第一通道，所述底部水平平面表面具有通向所述第一通道的开口，在垂直方向上保持所述第一通道的方向和体积连续性。

3.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述一种或多种物质通过底部水平平面表面被注入垂直布置在所述基板内的所述第一通道，所述底部水平平面表面具有通向所述第一通道的开口，其中，所述底部水平平面表面具有至少一个从一个边缘到另一个边缘的比所述芯片的垂直平面表面上的至少一个从一个边缘到另一个边缘的长度短的长度，在垂直方向上保持所述第一通道的方向和体积连续性。

4.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述一种或多种物质通过底部水平平面表面被注入垂直布置在所述基板内的所述第一通道，所述底部水平平面表面具有通向所述第一通道的开口，其中，所述底部水平平面表面具有比所述芯片的垂直平面表面上的表面区域更小或相等的表面区域，在垂直方向上保持所述第一通道的方向和体积连续性。

5.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述第一通道包括布置在所述基板的外表面的开口，所述开口的布置方式为所述一种或多种物质提供了垂直进入所述基板并在所述第一通道内垂直移动的路径。

6.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述一种或多种物质通过底部水平平面表面被注入垂直布置在所述基板内的所述第一通道，所述底部水平平面表面具有通向所述第一通道的开口，在垂直方向上保持所述第一通道的方向和体积连续性，其中所述第一通道的横截面和所述开口的横截面具有相同的面积、较小面积或较大面积。

7.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述一种或多种物质通过底部水平平面表面被注入垂直布置在所述基板内的所述第一通道，所述底部水平平面表面具有通向所述第一通道的开口，在垂直方向上保持所述第一通道的方向和体积连续性，其中以保持方向和体积连续性的方式设置所述第一通道和所述开口的形状、大小和定向。

8.根据权利要求1所述的设备，还包括平行或聚焦光源，其被定向为与所述第四通道中的粒子或细胞相互作用。

9.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，平行或聚焦光源被定向为沿所述第四通道中所述一种或多种物质的移动方向、与之相反的方向、与之正交的方向或成对角线的方向传播。

10.根据权利要求1所述的设备，其中所述第四通道对多个焦平面中的粒子或细胞进行成像和分析。

11.根据权利要求1所述的设备，其中所述第四通道在所述一种或多种物质移动期间，对多个焦平面中的粒子或细胞进行成像和分析。

12.根据权利要求1所述的设备，其中所述第四通道在所述一种或多种物质移动期间，粒子或细胞进行成像和分析。

13.根据权利要求1所述的设备，其中所述第四通道在所述一种或多种物质移动期间，从多个角度和/或定向对粒子或细胞进行成像和分析。