[其他]烤架盘有效

专利信息
申请号: 201790000587.3 申请日: 2017-05-19
公开(公告)号: CN209644713U 公开(公告)日: 2019-11-19
发明(设计)人: 皮差雅·普托尔古尔 申请(专利权)人: 美食之燃有限公司
主分类号: A47J37/06 分类号: A47J37/06;A47J37/04;A47J37/07
代理公司: 11111 北京市万慧达律师事务所 代理人: 朱凤成;张劼<国际申请>=PCT/TH2
地址: 泰国*** 国省代码: 泰国;TH
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摘要:
搜索关键词: 烧烤 本实用新型 平面的 烤架 肉品 边缘对齐 深度水平 水平平面 弯曲圆顶 常规盘 拐角处 油腻 排出 渗出 油流 湿润 清洁 观察 创建
【权利要求书】:

1.包括盘(1)的烤架盘,所述盘(1)在所述盘(1)的中间具有烧烤平面(2),所述烧烤平面(2)具有处于比所述烤架盘(1)的外壁的上边缘更高的烧烤平面水平,其中所述外壁与所述烧烤平面的边缘间隔开但是所述外壁的底部连接至所述烧烤平面的主体,由此形成了汤沟(4),

其特征在于:

所述烧烤平面(2)具有平坦的平面水平以防止正被烧烤的肉品或蔬菜向下滚到所述汤沟(4)内,以及具有若干长且窄的沟槽(5),所述沟槽(5)在所述烧烤平面的中心处浅而在连接至围绕所述烧烤平面(2)的汤沟(4)的烧烤平面的边缘处变得更深。

2.根据权利要求1所述的烤架盘,其中所述长且窄的沟槽(5)在所述烧烤平面(2)的中心周围的深度或底部水平(52)按照以下方式比所述长且窄的沟槽(5)在所述烧烤平面(2)邻近于所述汤沟(4)的边缘周围的深度或底部水平(53)小或者浅,即所述长且窄的沟槽(5)的底部开始从所述烧烤平面(2)的中心朝向其半径倾斜到所述烧烤平面的边缘大约5厘米距离的范围,由此所述沟槽的底部开始递增地从0度倾斜到10度。

3.根据权利要求1所述的烤架盘,其中所述长且窄的沟槽(5)在所述烧烤平面(2)的中心周围的所述深度或底部水平(52)比所述长且窄的沟槽在所述烧烤平面(2)的边缘周围的所述深度或底部水平(53)小或者浅,所述沟槽从脊部(51)到所述底部水平(53)的深度在3.0至5.66毫米之间;适当深度为4.5毫米。

4.根据权利要求2所述的烤架盘,其中所述长且窄的沟槽(5)在所述烧烤平面(2)的中心周围的所述深度或底部水平(52)比所述长且窄的沟槽在所述烧烤平面(2)的边缘周围的所述深度或底部水平(53)小或者浅,所述沟槽从脊部(51)到所述底部水平(53)的深度在3.0至5.66毫米之间;适当深度为4.5毫米。

5.根据权利要求1所述的烤架盘,其中在所述烤架盘的烧烤平面下面的表面(8)轻微弯曲而非笔直水平,由此形成用于所述烤架盘和电磁炉一起使用的适当空间(9),在所述烤架盘的烧烤平面下面的表面(8)与电磁炉的上平面或炉灶面(10)之间的空间(9)大约为2.5至5毫米,适当空间略小于5毫米。

6.根据权利要求2所述的烤架盘,其中在所述烤架盘的烧烤平面下面的表面(8)轻微弯曲而非笔直水平,由此形成用于所述烤架盘和电磁炉一起使用的适当空间(9),在所述烤架盘的烧烤平面下面的表面(8)与电磁炉的上平面或炉灶面(10)之间的空间(9)大约为2.5至5毫米,适当空间略小于5毫米。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的烤架盘,其中所述长且窄的沟槽(5)被设计为在横截面视图上类似于U形形状,以便避免在所述长且窄的沟槽(5)的下拐角处出现难以清洁的凹处。

8.根据权利要求1至6中任一项所述的烤架盘,其中所述汤沟(4)是宽的且具有从所述烧烤平面(2)的边缘到所述汤沟(4)的底部的弯曲侧面。

9.根据权利要求1至6中任一项所述的烤架盘,其中所述长且窄的沟槽(5)是沿半径从所述烧烤平面的中心开始到所述烧烤平面的边缘笔直的沟槽。

10.根据权利要求1至6中任一项所述的烤架盘,其中所述长且窄的沟槽(5)是对齐并聚集成三角形框架或形状的笔直或弯曲沟槽,从而形成相机光圈的快门形状。

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