[发明专利]一种膜层厚度的检测方法在审

专利信息
申请号: 201810002219.3 申请日: 2018-01-02
公开(公告)号: CN108050947A 公开(公告)日: 2018-05-18
发明(设计)人: 吕明阳;李月;李金钰;李彦辰;赵宇;侯少军;王冬;冯大伟;郭旺;罗兴友 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司
主分类号: G01B11/06 分类号: G01B11/06
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;黄灿
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 厚度 检测 方法
【说明书】:

发明提供一种膜层厚度的检测方法,通过使用照射光线照射待检测膜层,采集被待检测膜层散射形成散射光线,根据采集的散射光线得到光谱图,并可以从光谱图上获取所述待检测膜层的特征峰的参数信息,从而通过所述参数信息确定所述待检测膜层的厚度。这样,可以实现待检测膜层的厚度的自动检测,无需人工反复检测及反复调整,省时省力,方便快捷,有利于降低生产成本,提高产能,规范化生产工艺。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种膜层厚度的检测方法。

背景技术

随着全球信息社会的兴起增加了对各种显示装置的需求。因此,对各种平面显示装置的研究和开发投入了很大的努力,如有机电致发光显示装置(OLED)、液晶显示装置(LCD)、等离子显示装置(PDP)、场致发光显示装置(ELD)以及真空荧光显示装置(VFD)。

无论是传统的有机电致发光显示装置还是传统的液晶显示装置,一般是分别制作阵列基板和彩膜基板,然后将阵列基板与彩膜基板对位成盒,再注入液晶形成液晶显示面板,而在阵列基板以及彩膜基板的制作过程中,大多需要繁多的曝光、显影及刻蚀的工序,其中,在曝光、显影及刻蚀的工序中,如果有膜层在曝光、显影及刻蚀的工序后有残留,如光刻胶层等,由此对相应的膜层以及后续的工序造成不便,易造成误差增大并引起各种不良。

针对在曝光、显影及刻蚀的工序中膜层残留的问题,虽然现有方式可以快速找到残留位置,但是膜层的残留量,只能人工进行反复检测及反复调整才能去除残留量,不仅繁琐复杂,而且需要花费大量的人力和物力,不利于成本的降低、产能的提升及工艺的规范化。

发明内容

本发明实施例提供一种膜层厚度的检测方法,以解决传统方式中需要人工进行反复检测及反复调整,导致繁琐复杂,需要花费大量的人力和物力,不利于成本的降低、产能的提升及工艺的规范化的问题。

本发明实施例提供了一种膜层厚度的检测方法,所述方法包括:

使用照射光线照射待检测膜层;

采集待检测膜层对照射光线进行散射后形成的散射光线,根据采集到的散射光线得到光谱图;

从所述光谱图上确定所述待检测膜层的特征峰的参数信息;

基于预设的特征峰的参数信息与膜层厚度之间的对应关系,确定与所述待检测膜层的特征峰的参数信息相对应的所述待检测膜层的厚度。

进一步的,在所述基于预设的特征峰的参数信息与膜层厚度之间的对应关系,确定与所述待检测膜层的特征峰的参数信息相对应的所述待检测膜层的厚度的步骤之后,所述方法包括:

计算所述厚度与所述待检测膜层的预设厚度之间的差值;

基于所述差值,对所述待检测膜层的厚度进行调整。

进一步的,在所述基于预设的特征峰的参数信息与膜层厚度之间的对应关系,确定与所述待检测膜层的特征峰的参数信息相对应的所述待检测膜层的厚度的步骤之前,所述方法包括:

建立预设的特征峰的参数信息与膜层厚度之间的对应关系。

进一步的,所述建立预设的特征峰的参数信息与膜层厚度之间的对应关系的步骤,包括:

使用所述照射光线分别照射多个不同厚度的测试膜层;

采集每个测试膜层对照射光线进行散射后形成的散射光线,根据采集到的散射光线得到每个测试膜层对应的光谱图;

提取每个测试膜层的光谱图上特征峰的参数信息;

建立表示特征峰的参数信息与膜层厚度之间对应关系的模拟关系曲线。

进一步的,所述模拟关系曲线的相关系数大于95%。

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