[发明专利]掩膜板及其制备方法

权利要求书

1.一种掩膜板，其特征在于，包括：

掩膜板母板，所述掩膜板母板为因瓦合金；

保护层，所述保护层设置于掩膜板母板的至少一个表面上，所述保护层用于保护所述掩膜板母板和/或与所述掩膜板直接接触的衬底不受损伤，

所述保护层包括镍-磷薄膜和氟碳涂层，且基于所述镍-磷薄膜的总质量，按照质量百分比计，磷的含量为8-9％，

基于所述氟碳涂层的总质量，按照质量百分比计，所述氟碳涂层包括15～25％的聚醚醚酮、5～10％的聚苯硫醚、5～10％的MoS₂，以及余量的聚四氟乙烯，

制备所述掩膜板的方法包括：

提供掩膜板母板，所述掩膜板母板为因瓦合金；

形成保护层，所述保护层设置于所述掩膜板母板的至少一个表面上，所述保护层用于保护所述掩膜板母板和/或与所述掩膜板直接接触的衬底不受损伤，

其中，所述氟碳涂层是采用喷涂的方法形成的；

所述镍-磷薄膜是将所述掩膜板母板浸入镍-磷薄膜镀液中形成的，其中，所述镍-磷薄膜镀液包括：

NiSO₄·7H₂O 15～20g/L；

NaH₂PO₂·H₂O 25～30g/L；

Na₃C₆H₅O₇·2H₂O 8～10g/L；及

NH₄Cl 25～30g/L，

所述掩膜板母板在所述镍-磷薄膜镀液中浸泡之后，进一步包括热处理的步骤，所述热处理的温度为350-450℃。

2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述保护层包括所述镍-磷薄膜和所述氟碳涂层，其中，所述镍-磷薄膜设置在所述掩膜板模板的至少一个表面上，所述氟碳涂层设置于所述镍-磷薄膜远离所述掩膜板母板的表面上。

3.一种制备掩膜板的方法，其特征在于，包括：

提供掩膜板母板，所述掩膜板母板为因瓦合金；

形成保护层，所述保护层设置于所述掩膜板母板的至少一个表面上，所述保护层用于保护所述掩膜板母板和/或与所述掩膜板直接接触的衬底不受损伤，

其中，所述保护层包括镍-磷薄膜和氟碳涂层，且基于所述镍-磷薄膜的总质量，按照质量百分比计，磷的含量为8-9％，

其中，所述氟碳涂层是采用喷涂的方法形成的；

所述镍-磷薄膜是将所述掩膜板母板浸入镍-磷薄膜镀液中形成的，其中，所述镍-磷薄膜镀液包括：

NiSO₄·7H₂O 15～20g/L；

NaH₂PO₂·H₂O 25～30g/L；

Na₃C₆H₅O₇·2H₂O 8～10g/L；及

NH₄Cl 25～30g/L，

所述掩膜板母板在所述镍-磷薄膜镀液中浸泡之后，进一步包括热处理的步骤，所述热处理的温度为350-450℃。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述镍-磷薄膜镀液的温度为60-100℃，所述掩膜板母板浸入镍-磷薄膜镀液中的pH为4.5-5.5。

5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，将所述掩膜板母板浸入所述镍-磷薄膜镀液之前，进一步包括：

对所述掩膜板母板依次进行敏化处理和活化处理。