[发明专利]像素结构、像素驱动方法、阵列基板、显示装置有效

专利信息
申请号: 201810004277.X 申请日: 2018-01-03
公开(公告)号: CN108196362B 公开(公告)日: 2020-06-12
发明(设计)人: 贺伟;陈文强;程石;方姣;李兴华 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: G02B26/00 分类号: G02B26/00;G02B26/02
代理公司: 北京市立方律师事务所 11330 代理人: 刘延喜
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 像素 结构 驱动 方法 阵列 显示装置
【说明书】:

发明提供一种像素结构、像素驱动方法、阵列基板、显示装置。所述像素结构包括固定基板和可在与所述固定基板平行的平面内移动以改变入射光有效反光面积的可移动导电层,所述固定基板包括透明衬底和设于所述透明衬底上的导电隔膜,所述导电隔膜上包覆介电层;所述可移动导电层设于远离所述透明衬底的一侧;所述可移动导电层与所述介电层之间能够形成干涉气隙,所述干涉气隙的高度为2nλ,其中,λ为该像素的颜色对应的光波波长,n为自然数。本发明的像素结构调整灰阶的方法与现有的空间灰阶调制方式、空间与时间混合调制方式相比,减少了制造寻址单元的难度。

技术领域

本发明涉及显示领域,尤其是一种像素结构、像素驱动方法、阵列基板和显示装置。

背景技术

MEMS(Micro Electro Mechanical System,简称微机电系统)是基于(但不限于)IC工艺设计并制造、集成电子器件与机械器件于一体的微小系统,其内部结构一般在微米甚至纳米量级,是一个独立的智能系统。随着MEMS技术的发展以及MEMS技术制造成本和功耗的显著降低,基于MEMS技术的显示产品得到了迅速的发展,全球80%以上的数字影院都采用这种技术。现在,技术趋势朝着更小外形、更低功耗和更高分辨率的MEMS显示设备发展,以将任何表面转换为高清显示屏。利用MEMS微光学器件可以很好地实现光线的调制和操控,因此,基于MEMS的显示技术自上世纪80年代以来得到长足的发展,例如:基于DMD器件(Micro mirror Device,数字微镜器件)的DLP(Digital Light Procession,数字光处理)投影仪,基于GLV(Grating Light Valve,栅状光阀成像系统)技术的大型GxL激光投影仪。

IMOD技术(Interferometer Modulator,干涉仪调节器显示技术)属于反射式显示技术,即便是在阳光照射下,它也能使显示器的图像清晰锐丽。它展现色彩的过程与蝴蝶翅膀闪闪发光的原理相同;而且,基于IMOD技术的显示设备不需要背光源,相对于其它显示技术,具有显著的低功耗性能,可大幅延长设备的电池寿命。

现有的IMOD技术主要是利用两片镜面形成一个微小的谐振腔,如图1和图2中的镜片8和反射镜片9,入射光A与反射镜片9反射的反射光B在谐振腔之间形成不同波长光的驻波干涉;调整谐振腔的距离,可产生不同颜色的干涉光C。如图1所示,当左侧镜片8在入射光A与反射光B的波节点D的位置时,入射光A与反射光B形成结构性干涉,干涉光C可以通过左侧镜片8;此时,该像素点是明亮的,根据谐振腔的高度,可产生特定的色彩,形成显示。如图2所示,当左侧镜片8不在入射光A与反射光B的波节点D位置时,入射光A与反射光B形成破坏性干涉,干涉光C不能通过左侧镜片8,无法形成显示;此时,像素点将变黑。为了实现显示的灰阶,可通过空间抖动将一个子象素分成许多可独立驱动的寻址单元,通过不同寻址单元的组合,获得理想的灰度。但是这种像素点的灰度调节方式取决于寻址单元的数量,其灰度的灰阶数量有限,而且对显示器件的制造精度要求非常高。

发明内容

本发明的目的旨在提供一种方便调节像素灰阶的像素结构,尤其是一种不通过预设寻址单元调节灰阶的像素结构、像素驱动方法、阵列基板、显示装置。本发明的技术方案如下:

一种像素结构,包括固定基板和可在与所述固定基板平行的平面内移动以改变入射光有效反光面积的可移动导电层,所述固定基板包括透明衬底和设于所述透明衬底上的导电隔膜,所述导电隔膜上包覆介电层;所述可移动导电层设于远离所述透明衬底的一侧;

所述可移动导电层与所述介电层之间能够形成干涉气隙,所述干涉气隙的高度为2nλ,其中,λ为该像素的颜色对应的光波波长,n为自然数。

优选地,所述可移动导电层包括柔性反射薄膜,所述柔性反射薄膜与所述介电层之间能够形成所述干涉气隙;所述可移动导电层还包括用于限定所述干涉气隙高度的刚性层。

优选地,所述导电隔膜靠近透明衬底的一面包括抗反射涂层,远离透明衬底的一面包括吸收层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810004277.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top