[发明专利]介质传送装置、记录装置有效
申请号: | 201810006238.3 | 申请日: | 2018-01-03 |
公开(公告)号: | CN108372729B | 公开(公告)日: | 2020-08-14 |
发明(设计)人: | 前田浩之;坂上将太 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | B41J11/00 | 分类号: | B41J11/00 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 张永明;玉昌峰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 介质 传送 装置 记录 | ||
1.一种介质传送装置,其特征在于,具备:
环形的传送带,介质被吸附于所述传送带的外表面;
作为供所述传送带张挂缠绕的至少两个辊的第一辊和第二辊,所述第二辊相对于所述第一辊位于介质传送方向上的下游;以及
支承部件,在所述第一辊与所述第二辊之间从所述传送带的内表面一侧支承所述传送带,
所述支承部件具备凹陷形成部,所述凹陷形成部形成于所述支承部件的在所述介质传送方向上的上游一侧的端部,并且,所述凹陷形成部在与所述介质传送方向交叉的宽度方向上形成有多个从支承所述传送带的支承面凹陷的凹陷部,
通过所述凹陷形成部,于所述支承部件的在所述介质传送方向上的上游一侧的端部的位置处沿所述传送带的与所述介质传送方向交叉的宽度方向形成为波形状,
所述凹陷部形成为从所述介质传送方向上的上游侧往下游侧前端越来越细直至封闭。
2.根据权利要求1所述的介质传送装置,其特征在于,
形成于所述支承部件的多个所述凹陷部沿所述介质传送方向延伸设置。
3.根据权利要求1所述的介质传送装置,其特征在于,
所述支承部件的所述支承面构成为,位于所述第一辊和所述第二辊共同的切线中的在所述支承面一侧的切线的外侧,并且,所述支承部件赋予所述传送带以张力。
4.根据权利要求1所述的介质传送装置,其特征在于,
所述凹陷形成部构成为,在所述宽度方向上交替配置有所述凹陷部和支承所述传送带的支承部。
5.根据权利要求4所述的介质传送装置,其特征在于,
所述凹陷形成部在所述支承部的、至少所述介质传送方向上的上游一侧的端部具备保护接触的所述传送带的保护部。
6.根据权利要求4所述的介质传送装置,其特征在于,
多个所述支承部在所述介质传送方向上的上游一侧沿所述宽度方向彼此连结。
7.根据权利要求1所述的介质传送装置,其特征在于,
所述凹陷形成部在所述宽度方向上具备第一区域和第二区域,宽度窄的窄幅凹陷部设置于所述第一区域,宽度比所述窄幅凹陷部宽的宽幅凹陷部设置于所述第二区域,
在所述凹陷形成部中,所述第一区域设于所述宽度方向上的中央,所述第二区域相对于所述第一区域设于所述宽度方向上的端部侧。
8.根据权利要求1所述的介质传送装置,其特征在于,
所述介质传送装置具备除去通过所述传送带传送的介质的表面的电荷的除电部。
9.根据权利要求8所述的介质传送装置,其特征在于,
所述除电部设于与所述凹陷形成部相对的位置。
10.根据权利要求9所述的介质传送装置,其特征在于,
所述介质传送装置具备使所述传送带带电的带电单元,所述带电单元相对于所述除电部位于所述传送带的旋转方向上的上游侧。
11.根据权利要求1所述的介质传送装置,其特征在于,
所述传送带构成为,当在所述介质传送方向上通过所述支承部件的设有所述凹陷形成部的区域来支承所述传送带时,所述传送带的表观上的带宽变窄。
12.根据权利要求10所述的介质传送装置,其特征在于,
所述传送带构成为,当在所述介质传送方向上通过所述支承部件的设有所述凹陷形成部的区域来支承所述传送带时,所述传送带的表观上的带宽变窄,
所述除电部在所述带宽最窄的位置上对通过所述传送带传送的介质进行除电。
13.一种记录装置,其特征在于,具备:
记录头,对介质进行记录;以及
根据权利要求1所述的介质传送装置,由所述支承部件所支承的所述传送带与所述记录头相对,并且,在通过所述记录头进行记录的记录区域的上游侧具有所述凹陷形成部。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于精工爱普生株式会社,未经精工爱普生株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810006238.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。