[发明专利]一种降解模组及清洗设备

说明书

本发明公开了一种降解模组及清洗设备。该降解模组包括基底以及设置在所述基底上的降解层，所述降解层用于在光的照射下降解有机物。该清洗设备包括该降解模组，还包括用于向降解模组照射光的发光膜组。降解模组设置在清洗设备的容器内，所述降解模组的设置方向与容器内的水流方向一致。在光的照射下，该解模组可以除去循环水中的有机污染物，保证了循环水的水质，提高了循环水的清洗效果，避免了循环水频繁更换，降低了清洗设备的使用成本。

技术领域

本发明水处理技术领域，具体涉及一种降解模组及清洗设备。

背景技术

在显示器制作过程中，需要采用清洗设备对基板进行循环水清洗。在对基板进行循环水清洗时，基板制作过程中产生的有机污染物会残留在清洗设备容器中。有机污染物在容器中聚集，滋生出更多有机污染物，导致循环水被污染，一方面降低了循环水的清洗效果，不利于膜层表面微粒的管控；另一方面，循环水被污染造成循环水频繁更换，增大了清洗设备的使用成本。

发明内容

本发明实施例所要解决的技术问题是，提供一种降解模组及清洗设备，以去除循环水中的有机污染物。

为了解决上述技术问题，本发明实施例提供了一种降解模组，包括基底以及设置在所述基底上的降解层，所述降解层用于光的照射下降解有机物。

可选地，所述降解层的材质包括二氧化钛，所述光为紫外光。

可选地，所述降解层的材质包括二氧化钛和铁，所述光为可见光。

可选地，所述铁的质量与二氧化钛和铁的质量和的比值为0.3％～5％。

可选地，所述降解层包括靠近基底的平坦层以及间隔设置在所述平坦层上的条状体或块状体。

可选地，所述降解模组还包括设置在所述基底与所述降解层之间的电极层和绝缘层，所述电极层靠近所述基底，所述绝缘层覆盖所述电极层。

可选地，所述电极层包括与所述条状体或块状体相对应的主控电极条或主控电极块，所述主控电极条或主控电极块在所述基底上的正投影包含所述条状体或块状体在所述基底上的正投影。

可选地，所述电极层还包括设置在相邻所述主控电极条或主控电极块之间的辅助电极条或辅助电极块。

为了解决上述技术问题，本发明实施例还提供了一种清洗设备，包括如上所述的降解模组，还包括用于向所述降解模组照射光的发光模组，所述降解模组设置在清洗设备的容器内，所述降解模组的设置方向与容器内的水流方向一致。

可选地，所述降解模组的数量为至少两个，所述至少两个降解模组依次重叠设置。

本发明实施例提出的降解模组，通过在基底上设置降解层，降解层能够在光的照射下降解有机污染物，从而当将该降解模组放置到循环水中时，在光的照射下，该降解模组可以除去循环水中的有机污染物，保证了循环水的水质，提高了循环水的清洗效果，避免了循环水频繁更换，降低了循环水清洗设备的使用成本。

本发明的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本发明而了解。本发明的目的和其他优点可通过在说明书、权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。

附图说明

附图用来提供对本发明技术方案的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本申请的实施例一起用于解释本发明的技术方案，并不构成对本发明技术方案的限制。

图1为本发明第一实施例降解模组的截面结构示意图；

图2为本发明第二实施例降解模组的截面结构示意图；

图3为本发明第二实施例降解模组的形成绝缘层后的结构示意图；