[发明专利]阵列基板、显示装置及阵列基板的制作方法

说明书

一种阵列基板，包括基板、设置在基板上的多个薄膜晶体管、设置在多个薄膜晶体管上的第一钝化层以及在第一钝化层上依次层叠设置的平坦化层、第二钝化层、公共电极层、第三钝化层、像素电极层，其中，公共电极层包括透明电极层与设置在透明电极层上的第三金属层，第二钝化层具有与第三金属层相对应的图案。本发明还提供一种显示装置及阵列基板的制作方法。本发明的阵列基板在平坦化层上增设第二钝化层，且第二钝化层具有与第三金属层相对应的图案，从而可以有效抵消在图案化制作第三金属层的过程中第三金属层对平坦化层产生的作用力影响，解决平坦化层断裂的问题，改善阵列基板的质量。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是关于一种阵列基板、显示装置及阵列基板的制作方法。

背景技术

随着显示技术的发展，液晶显示面板(Liquid Crystal Display，LCD)因其轻便、低辐射等优点越来越受到人们的欢迎。液晶显示面板包括对置的彩色滤光片基板(ColorFilter，CF)和薄膜晶体管阵列基板(TFT array)以及夹置在两者之间的液晶层(LClayer)。

在传统的薄膜晶体管阵列基板制造流程中，平坦化工艺是很重要的一个环节，通过平坦化工艺形成平坦化层(OC)可以减小各层别之间堆叠形成的高度差以便于继续制作图形。通常，平坦化层形成在一覆盖薄膜晶体管的钝化层(PV)上，接着在平坦化层上形成图案化公共电极层(ITO)，然后在图案化公共电极层上沉积一金属层并刻蚀得到图案化金属层(M3)以增加公共电极的稳定性，然而，由于金属具有较大的延展性，在对金属层进行刻蚀得到的图案化金属层时，金属层的结构变化导致图案化公共电极层对OC的作用力发生变化，使得ITO与PV之间对OC施加方向相反且大小不同的拉力，这将导致OC受力不均而出现断裂(Crack)，使得薄膜晶体管阵列基板存在质量问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种阵列基板、显示装置及阵列基板的制作方法，可解决平坦化层断裂的问题，改善阵列基板的质量。

本发明提供一种阵列基板，包括基板、设置在所述基板上的多个薄膜晶体管、设置在所述多个薄膜晶体管上的第一钝化层以及在所述第一钝化层上依次层叠设置的平坦化层、第二钝化层、公共电极层、第三钝化层、像素电极层，其中，所述公共电极层包括透明电极层与设置在所述透明电极层上的第三金属层，所述第二钝化层具有与所述第三金属层相对应的图案。

进一步地，包括：

第一金属层，设置在所述基板上，所述第一金属层包括多个栅极；

第一绝缘层，设置在所述第一金属层上；

半导体层，设置在所述第一绝缘层上，所述半导体层包括设置在所述第一绝缘层上的半导体通道层与设置在所述半导体通道层上的欧姆接触层；

第二金属层，设置在所述半导体层上，所述第二金属层包括多个源极和多个漏极；其中，

所述多个栅极、所述半导体层、所述多个源极和所述多个漏极构成所述多个薄膜晶体管。

进一步地，所述第二钝化层具有与所述第三金属层相同的图案。

进一步地，所述第二钝化层采用与所述第一钝化层相同的成膜条件成膜。

本发明还提供一种显示装置，包括如上所述的阵列基板。

本发明还提供一种阵列基板的制作方法，包括：

在基板上制作多个薄膜晶体管；

在所述多个薄膜晶体管上形成第一钝化层；

在所述第一钝化层上依次层叠形成平坦化层、第二钝化层、公共电极层、第三钝化层、像素电极层；其中，

形成所述第二钝化层的步骤包括：