[发明专利]一种低剖面单向辐射差分超宽带天线有效

专利信息
申请号: 201810009520.7 申请日: 2018-01-05
公开(公告)号: CN108183329B 公开(公告)日: 2020-11-10
发明(设计)人: 张文梅;李莉;耿彦峰;陈新伟;马润波;韩丽萍 申请(专利权)人: 山西大学
主分类号: H01Q1/48 分类号: H01Q1/48;H01Q1/50;H01Q19/02
代理公司: 太原市科瑞达专利代理有限公司 14101 代理人: 卢茂春
地址: 030006 山*** 国省代码: 山西;14
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 剖面 单向 辐射 差分超 宽带 天线
【权利要求书】:

1.一种低剖面单向辐射差分超宽带天线,其特征在于:包括双向辐射差分超宽带天线和封装腔,双向辐射差分超宽带天线位于封装腔的上方;整个封装腔的高度为最低工作频率上波长的1/10,降低了整个天线的高度,减小了其体积;在辐射边和非辐射边设置屏蔽过孔和屏蔽金属带,实现天线的单向辐射,同时实现天线的超宽带工作;

所述双向辐射差分超宽带天线从上至下设置有接地板、矩形介质基板、左馈电贴片和右馈电贴片;接地板放置于矩形介质基板的上面,左馈电贴片与右馈电贴片关于x轴对称并关于y轴对称,且位于矩形介质基板的下面;接地板设有圆孔,圆孔径向且沿x轴方向设有一条平衡金属带,平衡金属带两端连接接地板;所述左馈电贴片由微带线、短截线、矩形金属贴片和一个半圆形的贴片连接构成整体;所述右馈电贴片由微带线、短截线、矩形金属贴片和一个半圆形的贴片连接构成整体;微带线连接短截线和矩形金属贴片,矩形金属贴片连接半圆形的贴片;

所述封装腔包括封装地、短路过孔、辐射边屏蔽过孔、非辐射边屏蔽过孔、非辐射边屏蔽金属带、阻抗匹配过孔、阻抗匹配圆板,封装腔高度为8~10mm;封装腔上端连接到接地板,下端与封装地相连;封装地位于介质基板正下方,封装地为形状与介质板相同的金属板;短路过孔位于平衡金属带下方;

所述辐射边屏蔽过孔包括左辐射边屏蔽过孔和右辐射边屏蔽过孔,左辐射边屏蔽过孔、右辐射边屏蔽过孔关于x轴对称,左辐射边屏蔽过孔下端连接在封装地上,上端悬空;右辐射边屏蔽过孔下端连接在封装地上,上端悬空,左辐射边屏蔽过孔、右辐射边屏蔽过孔的高度均为封装腔高度的3/4;左辐射边屏蔽过孔有两组,每组若干个过孔,两组左辐射边屏蔽过孔对称地分布在y轴两侧,离开y轴距离为5~7mm,相邻左辐射边屏蔽过孔间距为0.5~1.5mm;右辐射边屏蔽过孔有两组,每组若干个过孔,两组辐射边屏蔽过孔对称地分布在y轴两侧,离开y轴距离为5~7mm,相邻右辐射边屏蔽过孔间距为0.5~1.5mm;

所述非辐射边屏蔽过孔包括前非辐射边屏蔽过孔和后非辐射边屏蔽过孔,前非辐射边屏蔽过孔、后非辐射边屏蔽过孔关于y轴对称,前非辐射边屏蔽过孔下端连接在封装地上,上端悬空;后非辐射边屏蔽过孔下端连接在封装地上,上端悬空;前非辐射边屏蔽过孔、后非辐射边屏蔽过孔的高度均为封装腔高度的3/4;前非辐射边屏蔽过孔有两组,位于封装腔的前端,每组若干个过孔,两组前非辐射边屏蔽过孔对称地分布在x轴两侧,且离开x轴距离为1~3mm,相邻前非辐射边屏蔽过孔间距为8~10mm;后非辐射边屏蔽过孔有两组,位于封装腔的后端,每组若干个过孔,两组后非辐射边屏蔽过孔对称地分布在x轴两侧,且离开x轴距离为1~3mm,相邻后非辐射边屏蔽过孔间距为8~10mm;

所述非辐射边屏蔽金属带包括前非辐射边屏蔽金属带和后非辐射边屏蔽金属带,前非辐射边屏蔽金属带、后非辐射边屏蔽金属带关于y轴对称;若干条前非辐射边屏蔽金属带沿z轴均匀分布,位于封装腔的前端,前非辐射边屏蔽金属带的高度为封装腔高度的3/4;若干条后非辐射边屏蔽金属带沿z轴均匀分布,位于封装腔的后端,后非辐射边屏蔽金属带的高度为封装腔高度的3/4;

所述阻抗匹配过孔有4个,下端连接封装地,上端悬空,4个阻抗匹配过孔在封装地上的连接点位于与x轴的夹角分别为45°、135°、225°、315°的直线上;阻抗匹配圆板为以阻抗匹配过孔为圆心,位于阻抗匹配过孔悬空的顶端;

坐标原点位于最上面接地板的中心,xy平面建立在最上层接地板所在的平面,x轴沿着平衡金属带,y轴与其垂直,z轴垂直于接地板所在的平面。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于山西大学,未经山西大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810009520.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top