[发明专利]雪花釉釉料及相关的制备方法和面釉配方调整方法有效
申请号: | 201810011411.9 | 申请日: | 2018-01-05 |
公开(公告)号: | CN108129029B | 公开(公告)日: | 2020-10-27 |
发明(设计)人: | 林孝发;林孝山;刘中起;闵卫;汪志良 | 申请(专利权)人: | 九牧厨卫股份有限公司 |
主分类号: | C03C8/14 | 分类号: | C03C8/14;C03C8/20;C04B41/89 |
代理公司: | 厦门龙格专利事务所(普通合伙) 35207 | 代理人: | 郑晓荃 |
地址: | 362304 福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 雪花 釉料 相关 制备 方法 和面 配方 调整 | ||
1.雪花釉釉料,包括面釉釉料和底釉釉料,其特征是,所述的面釉釉料为透明釉料,所述的底釉釉料为乳浊白釉料,所述底釉釉料煅烧后的化学成份中,按重量百分比至少包括氧化硅60-65%和氧化锆6-8%;所述的面釉釉料的始熔温度低于所述的底釉釉料的始熔温度35-45℃。
2.如权利要求1所述的雪花釉釉料,其特征是,所述的底釉釉料始熔温度在1155-1175℃之间,所述的面釉釉料煅烧后的化学成份中,按重量百分比至少包括氧化钙13-15%且氧化钾和氧化钠的重量百分比之和小于或等于3%。
3.如权利要求2所述的雪花釉釉料,其特征是,所述的面釉釉料煅烧后的化学成份按重量百分比具体地包括氧化硅60-65%、氧化铝12-14%、氧化钾1-2.5%、氧化钠0.5-1%、氧化钙13-15%、氧化镁1-3%、氧化锌3-6%、氧化锶0-1%和氧化银1-3%。
4.如权利要求3所述的雪花釉釉料,其特征是:面釉釉料的原料组成按重量百分比包括:石英8-15%、高岭土3-6%、方解石0-3%、白云石1-3%、钾长石0-3%、氧化锌1-3%、熔块75-85%和纳米银离子抗菌剂1-3%;其中,所述的熔块经1500℃以上的高温煅烧而成,其化学成份按重量百分比包括氧化硅 60-65%、氧化铝12-14%、氧化钾0.5-2%、氧化钠 0-0.5%、氧化钙15-18%、氧化镁 1-3%、氧化锌3-6%和氧化锶 0-1%。
5.如权利要求2或3所述的雪花釉釉料,其特征是,所述的底釉釉料煅烧后的化学成份按重量百分比包括氧化硅60-65%、氧化铝9-12%、氧化钾2-3.5%、氧化钠1-2%、氧化钙9-12%、氧化镁1-3%、氧化锌3-5%和氧化锆6-8%。
6.如权利要求5所述的雪花釉釉料,其特征是:底釉釉料的原料组成按重量百分比包括石英28-32%、高岭土3-5%、方解石12-16%、白云石2-6%、氧化锌2-5%、钾长石28-32%、硅酸锆9-12%和氧化铝1-3%。
7.如权利要求2或3所述的雪花釉釉料,其特征是,底釉釉料煅烧后的化学成份按重量百分比包括氧化硅60-65%、氧化铝8-11%、氧化钾2-3.5%、氧化钠0.5-2%、氧化钙10-13%、氧化镁1-3%、氧化锌2-4%和氧化锆7-8.5%。
8.如权利要求7所述的雪花釉釉料,其特征是:底釉釉料的原料组成按重量百分比包括石英32-35%、高岭土3-5%、方解石14-18%、白云石4-8%、氧化锌1-3%、钾长石22-26%、硅酸锆10-12%和氧化铝2-5%。
9.雪花釉制备方法,其特征是,包括以下步骤:
步骤101:将权利要求1-8中任一项所述的雪花釉釉料中的底釉釉料均匀喷涂在陶瓷坯体表面以形成底釉层,控制底釉层厚度为0.5-0.7mm;
步骤102:将权利要求1-8中任一项所述的雪花釉釉料中的面釉釉料均匀喷涂在所述的底釉层表面以形成面釉层,控制面釉层厚度为0.1-0.15mm、釉料吐出量30-40s/200mL、釉料雾化气压0.45-0.5MPa;
步骤103:入窑烧成,烧成温度控制在1230-1250℃,烧成时间16-19h。
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