[发明专利]软脆晶片研磨抛光用磨料的制备方法及其应用

权利要求书

1.一种软脆晶片研磨抛光用磨料的制备方法，其特征在于，利用沉降法对磨料进行粒度分级，以制备粒度分布均匀的高品质磨料，包括如下步骤：

a.调控磨料在水中分散性：

采用去离子水为溶剂，将磨料和去离子水混合配制悬浮液并搅拌均匀，采用悬浮液吸光度观察法确定样品在悬浮液中的分散性，测量悬浮液吸光度，若在20min内悬浮液吸光度值不发生明显下降，则完成悬浮液制备；若悬浮液吸光度发生明显下降，则调节悬浮液PH，通过加入分散剂搅拌均匀后，完成悬浮液制备；

b.沉淀与悬浮液分离时间确定：

绘制悬浮液沉降质量随沉降时间变化的曲线，根据曲线特征确定沉淀与悬浮液的沉降分离时间；

c.多次分离分级：

在同一分离时间处，在当前分离悬浮液与沉淀后，在沉淀中重新加入去离子水，搅拌均匀后制得后续悬浮液，以相同分离时间多次分离悬浮液，得到分级后各磨料粒径从大到小的不同粒度级别的磨料。

2.根据权利要求1所述软脆晶片研磨抛光用磨料的制备方法，其特征在于：在所述步骤a中，在配制悬浮液时，按照磨料粉体和去离子水混合质量比为(1-6):20的比例配制磨料粉体悬浮液，磨料的平均粒径D₅₀为1-20μm。

3.根据权利要求1所述软脆晶片研磨抛光用磨料的制备方法，其特征在于：在所述步骤a中，测量悬浮液吸光度，若悬浮液吸光度发生明显下降，则原始磨料在水溶液中发生快速沉降、团聚絮凝，需加入分散剂搅拌后才能使用，所述分散剂采用聚丙烯酸铵、柠檬酸、PBTCA和聚乙二醇中的任意一种或任意几种的混合剂，向悬浮液中加入的分散剂质量分数为0.5-1.5％，并根据分散剂调节悬浮液的PH。

4.根据权利要求3所述软脆晶片研磨抛光用磨料的制备方法，其特征在于：在所述步骤a中，测量悬浮液吸光度，向悬浮液中加入的分散剂质量分数为0.7-1％。

5.根据权利要求1～4中任意一项所述软脆晶片研磨抛光用磨料的制备方法，其特征在于：在所述步骤a中，若悬浮液吸光度发生明显下降，调节悬浮液PH为4-11。

6.根据权利要求1～4中任意一项所述软脆晶片研磨抛光用磨料的制备方法，其特征在于：在所述步骤a中，按照磨料粉体和去离子水混合质量比为(1-4):20的比例配制磨料粉体悬浮液。

7.根据权利要求1～4中任意一项所述软脆晶片研磨抛光用磨料的制备方法，其特征在于：在所述步骤a中，磨料的平均粒径D₅₀为3.00-3.99μm。

8.根据权利要求1～4中任意一项所述软脆晶片研磨抛光用磨料的制备方法，其特征在于：在所述步骤c中，在同一分离时间处进行2-6次分离悬浮液。

9.一种权利要求1所述软脆晶片研磨抛光用磨料的制备方法制备的磨料的应用，其特征在于：应用于碲锌镉软脆晶片的精密研磨抛光工艺。

10.根据权利要求9所述磨料的应用，其特征在于：以磨料和去离子水质量比为1:(10-15)进行混合配制研磨液，对碲锌镉晶片进行机械研磨。