[发明专利]环形循环连续式真空镀膜装置

说明书

本发明涉及一种环形循环连续式真空镀膜装置，包括主腔体、主真空系统及镀膜工艺组件，主腔体设置有主腔室、可开合的进料口，还包括转盘、转盘升降机构、转盘转动机构、进料腔室、若干个工艺腔室及进料子腔室真空系统，转盘转动机构驱动转盘水平转动，将待镀工件在进料腔室及各个工艺腔室之间传递，转盘升降机构驱动转盘升降，将进料腔室及工艺腔室在与主腔室联通的状态及独立真空腔室的状态之间切换，主真空系统将主腔室及各个工艺腔室进行真空处理，进料子腔室真空系统将进料腔室单独进行真空处理，不同的镀膜工艺组件安装于各工艺子腔体，实现不同的镀膜功能。本发明可在一个真空腔内实现环形循环连续式、低成本的镀膜生产。

技术领域

本发明属于真空镀膜设备技术领域，具体涉及一种环形循环连续式真空镀膜装置。

背景技术

现有的真空镀膜设备按照真空设备中真空腔的数目可分为单体式镀膜机及连续式镀膜设备。

单体式镀膜机通常是有一个真空腔体及抽气系统组成，真空镀膜工艺模块装载在腔体上，在达到所需真空度时，启用所需真空镀膜工艺模块，来实现材料表面的加工，单一腔体导致产品进出料时需要开关门，不能对产品进行连续生产，这会大大降低生产效率，增大人工成本，而且生产的不连续性造成实际生产中的产品差异性增大，一定程度上会影响产品质量。

自动连续式真空镀膜设备是多个独立的镀膜腔组成的线性连续真空镀膜装置，具有连续不间断生产、工艺稳定、生产节拍短的特点，目前大量应用于工业生产。线性连续式真空镀膜设备可以大大提高生产的自动化程度，提高生产效率，提高良品率。

现有技术中的线性连续式真空镀膜设备包含具有复数独立的镀膜腔、具有清洁缓冲腔及缓冲真空腔的缓冲真空装置、具有前置准备腔及完成腔的准备装置、传送装置及包括复数闸门的闸门单元。

线性连续式真空镀膜设备结构复杂，多个独立的镀膜腔需要配置多个高真空泵组，大量闸门的使用，增加了生产成本、生产时间、生产空间，复杂的设备增加了待镀工件传动的难度，多个腔体的存在也使增加了生产过程中故障维修的难度和成本，线性连续式镀膜设备的高门槛大大提高了企业的使用成本；对于一些小尺寸的工件，目前的连续式加工需要大量的人力装、卸载，很难实现连续化生产。

发明内容

针对现有技术存在的不足，本发明的目的在于提供一种可在一个真空腔内实现对产品环形循环连续式镀膜生产的低成本真空涂层装置。

为实现上述目的，本发明提供了如下技术方案：包括主腔体、主真空系统及镀膜工艺组件，所述的主腔体内设置有主腔室，所述的主真空系统将主腔室进行真空处理，所述的主腔体设置有可开合的进料口，其特征在于：还包括转盘、转盘转动机构、转盘升降机构、进料子腔体、至少2个工艺子腔体及进料子腔室真空系统，所述的转盘转动机构驱动转盘水平转动设置于主腔室内，所述的进料子腔体及工艺子腔体安装于主腔体顶部上盖板，所述的进料子腔体及两个以上工艺子腔体位于转盘上方并沿转盘环形周向等距排布，所述的进料子腔体及工艺子腔体底部设置有朝向转盘的密封口，所述的转盘在转盘升降机构驱动其上升时，将进料子腔体的密封口密封并构成进料腔室，将工艺子腔体的密封口密封并构成工艺腔室，所述的进料子腔室真空系统将进料腔室单独进行真空处理，所述的转盘上方用于放置待镀工件，并在转盘转动机构驱动其转动时将待镀工件在进料腔室及各工艺腔室之间传递，所述的镀膜工艺组件安装于工艺子腔体对应的主腔体顶部上盖板且各镀膜工艺组件的功能不同。

本发明进一步设置为：所述的转盘升降机构包括安装于主腔体并位于转盘下方的侧升降气缸及中升降气缸，所述的侧升降气缸驱动设置有与转盘放置待镀工件位置下方相抵的侧升降板，所述的中升降气缸驱动设置有中升降板，所述的中升降板设置有与转盘中部相抵的支撑杆。

本发明进一步设置为：所述的转盘转动机构包括安装于主腔体并位于转盘下方的转盘电机，所述的转盘电机驱动设置有转盘电机轴，所述的转盘电机轴与转盘周向联动。