[发明专利]一种适用于碲锌镉软脆晶片研磨抛光的研磨料在审
| 申请号： | 201810022066.9 | 申请日： | 2018-01-10 |
| 公开（公告）号： | CN108587567A | 公开（公告）日： | 2018-09-28 |
| 发明（设计）人： | 黄颖璞;毛晓辰 | 申请（专利权）人： | 镇江爱豪科思电子科技有限公司 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14 |
| 代理公司： | 镇江基德专利代理事务所(普通合伙) 32306 | 代理人： | 张敏 |
| 地址： | 212009 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 研磨料 碲锌镉 晶片 磨料 精密研磨抛光 研磨抛光加工 化学稳定性 晶片研磨 颗粒形状 强酸强碱 板片状 悬浮液 沉降 抛光 氧化铝 板片 划痕 晶型 粒径 去除 絮凝 嵌入 | ||
1.一种适用于碲锌镉软脆晶片研磨抛光的研磨料，其特征在于：研磨料晶型为α-氧化铝，颗粒形状为规则的板片状，粒径D50为2～9μm，D90不高于10μm，D10不低于1.5μm，板片厚度为0.9～2.2μm。
2.根据权利要求1所述的一种适用于碲锌镉软脆晶片研磨抛光的研磨料，其特征在于：研磨料在水溶液中不发生快速沉降、不产生团聚絮凝；验证步骤与解决方法为：以研磨料和去离子水按1:30的质量比配制悬浮液，搅拌均匀后置于比色皿中静置，并使用分光光度计测量悬浮液吸光度，20min内悬浮液吸光度值不发生明显下降；若悬浮液吸光度发生明显下降，则调节悬浮液PH，加入分散剂，搅拌5-10min后使用。
3.按权利要求2所述的一种适用于碲锌镉软脆晶片研磨抛光的研磨料，其特征在于：若原始研磨料在水溶液中发生快速沉降、团聚絮凝，分散剂选自聚丙烯酸铵、柠檬酸、PBTCA或聚乙二醇中的至少一种，质量分数为0.5％-1.5％。
4.按权利要求2或3所述的一种适用于碲锌镉软脆晶片研磨抛光的研磨料，其特征在于：加入分散剂为阴离子型分散剂时，溶液PH调节为8-10；加入分散剂为阳离子型分散剂或非离子型分散剂时，PH调节为4-6。
5.按权利要求1、2、3所述的一种适用于碲锌镉软脆晶片研磨抛光的研磨料，其特征在于：研磨料适用于碲锌镉软脆晶片的精密研磨抛光工艺。
6.按权利要求4所述的一种适用于碲锌镉软脆晶片研磨抛光的研磨料，其特征在于：研磨料适用于碲锌镉软脆晶片的精密研磨抛光工艺。
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