[发明专利]一种蒸发镀膜材料NbO2及其制备方法

权利要求书

1.一种蒸发镀膜材料NbO2，其特征在于，其主要成分为包括氧化铌和氧化铝的混合物，所述氧化铌与三氧化二铝混合物的比例为99.5％～90％∶0.5％～10％。所述混合物是将所述氧化铌和所述三氧化二铝按比例搅拌混合后经过真空熔炼而成。

2.根据权利要求1所述的一种光学镀膜材料，其特征在于，所述材料用于以真空蒸发镀膜的方式制备Nb2O5薄膜。该薄膜用于光学滤光片/高反射薄膜的制备。

3.根据权利要求1所述的一种蒸发镀膜材料NbO2，其特征在于，其主要成分为包括氧化铌和氧化铝的混合物，所述氧化铌与三氧化二铝混合物的比例为99％～90％∶1％～10％。

4.根据权利要求1所述的一种蒸发镀膜材料NbO2，其特征在于，一种蒸发镀膜材料NbO2是氧化铌和Al2O3的烧结混合物，烧结混合物的烧结温度是1500℃～1700℃。

5.根据权利要求1所述的一种蒸发镀膜材料NbO2，其特征在于，一种蒸发镀膜材料NbO2也是氧化铌和Al2O3的熔融混合物，熔融混合物的熔融温度是1500℃～1900℃。

6.根据权利要求1所述的一种蒸发镀膜材料NbO2，其特征在于，一种蒸发镀膜材料NbO2的镀膜条件：镀膜方式采用电子枪真空蒸发镀膜，镀膜沉积速率3-10埃/秒，基板温度250度。

7.一种蒸发镀膜材料NbO2的制备方法，其特征在于，包括以下几个步骤。

(1)按照重量比对选择的材料进行配比、并加入5％-10％的去离子水进行混合，并对混合好的材料进行造粒。

(2)材料配方如下：Nb2O5 96％-85％；Al2O3 5％-1％，C粉10％-3％。

(3)将造好的颗粒在1000℃-1500℃进行3-5小时烧结。去除水分并初步烧结。

(4)将烧结后的材料放在坩埚内，在1600℃-1750℃进行真空熔炼。将材料融化成液态，并维持3-5小时。

(5)熔体冷却后将其取出，并进行破碎，然后进行过筛和包装。

8.根据权利要求7所述的一种光学镀膜材料的加工方法，其特征在于，其原料成分为包括氧化铌和氧化铝以及石墨粉末的混合物，所述氧化铌与三氧化二铝以及石墨混合物的比例为96％～85％∶5％～1％∶10％～3％。

9.根据权利要求7所述的一种光学镀膜材料的加工方法，其特征在于，使用C元素作为材料还原剂，C可以夺取原料中Nb2O5成分的O，形成CO挥发。不会残留在材料中。

10.根据权利要求7所述的一种光学镀膜材料的加工方法，其特征在于，所述NbO2镀膜材料是将所述氧化铌和所述三氧化二铝混合后经真空烧结而成。烧结温度在1000℃-1500℃。

11.根据权利要求7所述的一种光学镀膜材料的加工方法，其特征在于，所述NbO2镀膜材料是将所述烧结后的混合物在1600℃-1750℃经真空熔炼而成。

12.根据权利要求7所述的一种光学镀膜材料的加工方法，其特征在于，所述NbO2镀膜材料是将所述熔炼后得到的熔体材料冷却后经过破碎过筛得到不规则颗粒物。