[发明专利]圆筒形防溅射靶在审
申请号: | 201810031016.7 | 申请日: | 2018-01-12 |
公开(公告)号: | CN108216697A | 公开(公告)日: | 2018-06-29 |
发明(设计)人: | 凌桂龙;李晶华;夏勇 | 申请(专利权)人: | 北京航空航天大学 |
主分类号: | B64G7/00 | 分类号: | B64G7/00;F28D21/00 |
代理公司: | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 孙辉 |
地址: | 100083*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 防溅射 圆筒形 冷却管 第二管 骨架主体 靶翅 片组 环境模拟设备 系统技术领域 等离子空间 出液口 电推进 进液口 侧壁 返流 溅射 连通 污染物 试验 | ||
本发明涉及一种用于地面电推进试验等离子空间环境模拟设备中的防溅射系统技术领域,尤其涉及一种圆筒形防溅射靶。圆筒形防溅射靶包括圆筒形防溅射靶骨架主体和圆筒形防溅射靶翅片组;圆筒形防溅射靶骨架主体包括第一管、第二管和第一冷却管;第一冷却管呈环形,第一冷却管有多个;多个第一冷却管通过第一管和第二管固定连接,形成圆筒形,且第一管、第二管和多个第一冷却管之间均连通;第一管上连接有第一进液口,第二管上连接有第一出液口;圆筒形防溅射靶翅片组与第一冷却管连接,形成圆筒形的侧壁。本发明在于提供一种圆筒形防溅射靶,以解决现有技术中存在的防溅射靶对溅射产物及返流污染物的降低效果不佳的技术问题。
技术领域
本发明涉及一种用于地面电推进试验等离子空间环境模拟设备中的防溅射系统技术领域,尤其是涉及一种圆筒形防溅射靶。
背景技术
电推进羽流主要由气体电离形成的等离子体组成,包含束流等离子体和电荷交换等离子体,会对航天器产生溅射污染效应,既包括带电粒子和中性粒子的沉积污染,又有高速带电粒子对航天器表面溅射刻蚀造成的溅射污染。
在地面电推进试验中,当高能束流离子和电荷交换离子碰撞于真空舱舱壁材料表面时,只要离子能量大于被碰撞材料的溅射阈值就会产生溅射污染,从而影响真空舱内粒子分布情况,严重影响实验结果。因此,需要对防溅射分子沉进行合理设计。
国际上一些适用于电推进的大型真空舱的防溅射分子沉结构的设计结构主要有平板式,异形式两种。但是现有的的防溅射分子沉结构的防溅射靶的结构简单,且在进行长时间地面电推进实验以及沉积污染物成分、质量分析时,溅射产物的空间分布及返流污染物都会对实验结果造成影响。
因此,本申请针对上述问题提供一种新的圆筒形防溅射靶。
发明内容
本发明的目的在于提供一种圆筒形防溅射靶,以解决现有技术中存在的防溅射靶对溅射产物及返流污染物的降低效果不佳的技术问题。
基于上述目的,本发明提供一种圆筒形防溅射靶,包括圆筒形防溅射靶骨架主体和圆筒形防溅射靶翅片组;
所述圆筒形防溅射靶骨架主体包括第一管、第二管和第一冷却管;
所述第一冷却管呈环形,且所述第一冷却管有多个,多个所述第一冷却管的轴线方向重合;
多个所述第一冷却管通过所述第一管和所述第二管固定连接,形成圆筒形,且所述第一管、所述第二管和多个所述第一冷却管之间均相连通;
所述第一管上连接有第一进液口,所述第二管上连接有第一出液口;
所述圆筒形防溅射靶翅片组与所述第一冷却管连接,形成所述圆筒形的侧壁。
在上述任一技术方案中,进一步地,本发明所述第一管和所述第二管的轴线方向平行;
所述第一管和所述第二管分别连接于所述第一冷却管沿径向方向的两端。
在上述任一技术方案中,进一步地,本发明所述圆筒形防溅射靶为卧式结构;
所述第一管位于所述第二管的底端。
在上述任一技术方案中,进一步地,本发明多个所述第一冷却管沿所述第一管的轴线方向均匀设置。
在上述任一技术方案中,进一步地,本发明所述的圆筒形防溅射靶,还包括进液总管;
所述进液总管设置于所述第一管远离所述第二管的一侧,且所述进液总管的轴线方向与所述第一管的轴线方向平行;
沿所述圆筒形的轴线方向,所述圆筒形具有相对应的第一端和第二端;
多个所述第一冷却管中靠近所述第一端的第一冷却管为第一端管,靠近所述第二端的第一冷却管为第二端管;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京航空航天大学,未经北京航空航天大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810031016.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。