[发明专利]一种SnS2有效

专利信息
申请号: 201810033576.6 申请日: 2018-01-12
公开(公告)号: CN110034278B 公开(公告)日: 2022-04-05
发明(设计)人: 张治安;赖延清;王麒羽;汪齐;刘芳洋;洪波;张凯;李劼 申请(专利权)人: 中南大学
主分类号: H01M4/136 分类号: H01M4/136;H01M4/1397;H01M4/04;H01M10/0525;C23C14/06;C23C14/35
代理公司: 长沙市融智专利事务所(普通合伙) 43114 代理人: 盛武生;魏娟
地址: 410083 湖南*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 一种 sns base sub
【权利要求书】:

1.一种SnS2薄膜锂电池负极,其特征在于,包括集流体,复合在集流体表面的金属缓冲层,以及复合在金属缓冲层上的活性物质层;

所述的金属缓冲层的材料为晶格常数在3.6-4.7之间具有导电性的金属;

所述的活性物质层的材料为暴露(0,0,1)晶面的SnS2

所述的金属缓冲层的材料为Cu,Ti,Pt,Cr中的至少一种;

所述的集流体为铜箔、不锈钢、镍箔、铁箔、钼箔、锌箔、镍钛合金或贵金属箔片;

所述的金属缓冲层的厚度为10-50nm;所述的活性物质层的厚度为200-500nm。

2.一种权利要求1所述的SnS2薄膜锂电池负极的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

步骤(1):利用磁控溅射在集流体表面溅射金属缓冲层的材料,在集流体表面形成金属缓冲层;所述缓冲层的材料为Cu,Ti,Pt,Cr中的一种或几种,溅射的缓冲层的厚度为10-50nm;

步骤(2):将复合有金属缓冲层的集流体作为基底,用Sn作为靶材,在包含H2S的气氛内反应溅射、在金属缓冲层上形成活性物质层;反应溅射过程的40-80W;所述的包含H2S的气氛为H2S气氛,或者为H2S-惰性气体的混合气氛;

H2S-惰性气体的混合气氛中,惰性气体/H2S的比例为1:10-10:1;反应溅射的活性物质层的厚度为200-500nm;

步骤(3):将步骤(2)得到的材料进行退火处理,得到所述的SnS2薄膜锂电池负极;

退火处理的温度为500-800℃。

3.如权利要求2所述的SnS2薄膜锂电池负极的制备方法,其特征在于,步骤(1)中,溅射功率为10-50W,溅射时间为10-30mins。

4.如权利要求2所述的SnS2薄膜锂电池负极的制备方法,其特征在于,步骤(2)中,反应溅射的时间为10-60mins。

5.如权利要求2所述的SnS2薄膜锂电池负极的制备方法,其特征在于,步骤(3)中,所述的退火在保护性气氛下进行,退火保温时间为30-180mins。

6.一种权利要求1所述的SnS2薄膜锂电池负极或者权利要求2~5任一项所述的制备方法制得的SnS2薄膜锂电池负极的应用,其特征在于,用作膜负极,和隔膜、膜正极组装成薄膜锂电池。

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