[发明专利]一种耐刮疏水减反膜的制备方法有效

专利信息
申请号: 201810034428.6 申请日: 2018-01-15
公开(公告)号: CN108455872B 公开(公告)日: 2021-06-15
发明(设计)人: 不公告发明人 申请(专利权)人: 宁波纳诺特新材料科技有限公司
主分类号: C03C17/25 分类号: C03C17/25;C08J7/06
代理公司: 宁波奥圣专利代理有限公司 33226 代理人: 谢潇
地址: 315300 浙江省宁*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 疏水 减反膜 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种耐刮疏水减反膜的制备方法,其特征在于,该疏水减反膜由杂化溶胶涂覆于透明基底制得,所述的杂化溶胶由经疏水改性的空心球SiO2纳米粒子与亲水性无机纳米粘结剂交联杂化而成;所述的杂化溶胶通过以下步骤制备:

(1)采用正硅酸四乙酯作为前驱体硅源I制备空心球SiO2纳米粒子溶液,得到溶液I;

(2)调节步骤(1)得到的溶液I的pH值至0.1~5,得到溶液II;

(3)将含有一个或两个相同或不同疏水官能团的硅氧烷作为前驱体硅源II加入步骤(2)得到的溶液II中,充分反应后,获得经疏水改性的空心球SiO2纳米粒子溶液,作为溶液III;

(4)将亲水性无机纳米粘结剂作为前驱体硅源III加入步骤(3)得到的溶液III中,充分反应后,获得所述的杂化溶胶。

2.根据权利要求1所述的一种耐刮疏水减反膜的制备方法,其特征在于,所述的疏水减反膜的厚度为80~300nm,水接触角≥90°。

3.根据权利要求1所述的一种耐刮疏水减反膜的制备方法,其特征在于,所述的空心球SiO2纳米粒子的平均粒径为20~100nm,平均壁厚为5~40nm。

4.根据权利要求1所述的一种耐刮疏水减反膜的制备方法,其特征在于,所述的亲水性无机纳米粘结剂为无机硅氧烷的低聚物、至少两种无机硅氧烷的共聚物或无机硅氧烷与有机硅氧烷的共聚物。

5.根据权利要求1所述的一种耐刮疏水减反膜的制备方法,其特征在于,所述的溶液I的制备过程为:

①将一水合氨加至水中,得到一水合氨的水溶液,再将聚丙烯酸分散到该一水合氨的水溶液中,得到混合溶液I-1;

②依次将混合溶液I-1和前驱体硅源I加至乙醇中,得到混合溶液I-2;

③对混合溶液I-2进行搅拌,陈化6~24小时后进行24~48小时的回流,去除溶液中的氨水,即得到所述的溶液I;

上述溶液I的制备过程中先后使用的一水合氨、水、聚丙烯酸、前驱体硅源I、乙醇的摩尔比为:(18~90):(44~220):(0.008~0.04):1:(600~800)。

6.根据权利要求1所述的一种耐刮疏水减反膜的制备方法,其特征在于,步骤(1)、步骤(3)和步骤(4)中所述的前驱体硅源I、前驱体硅源II和前驱体硅源III的摩尔比为1:(0.1~1):(0.1~2)。

7.根据权利要求1所述的一种耐刮疏水减反膜的制备方法,其特征在于,步骤(3)中所述的疏水官能团为烷烃基团或含氟烷基团。

8.根据权利要求1~7中任一项所述的一种耐刮疏水减反膜的制备方法,其特征在于,在经过清洗的透明基底上涂覆所述的杂化溶胶,再在250~450℃热处理0.5~2h,即得到所述的疏水减反膜。

9.根据权利要求8所述的一种耐刮疏水减反膜的制备方法,其特征在于,所述的透明基底为玻璃、石英或聚酰亚胺基底;所述的涂覆方法为浸渍-提拉、旋涂、滴涂、辊涂或喷涂。

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