[发明专利]等离子体源有效
| 申请号： | 201810035138.3 | 申请日： | 2018-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN108933076B | 公开（公告）日： | 2020-05-29 |
| 发明（设计）人： | 糸井骏;藤田秀树 | 申请（专利权）人： | 日新离子机器株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人： | 李成必;李雪春 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 等离子体 | ||
【权利要求书】：
1.一种等离子体源，其特征在于包括：
室，在内部生成等离子体；
一对镜像磁铁，在所述室的周围沿第一方向配置；以及
勾形磁铁，配置在所述一对镜像磁铁之间，
所述勾形磁铁由多个永磁铁构成，所述多个永磁铁在与所述第一方向垂直的面内在所述室的周围隔开间隙配置，所述永磁铁的所述室一侧的极性与相邻配置的所述永磁铁的极性交替不同，
各镜像磁铁由多个永磁铁构成，所述多个永磁铁在与所述第一方向垂直的面内，以所述室一侧的极性为同极性的方式在所述室的周围隔开间隙配置，
各镜像磁铁的所述室一侧的极性不同，
在构成所述勾形磁铁和所述镜像磁铁的多个永磁铁间的间隙内设置有制冷剂流道。
2.根据权利要求1所述的等离子体源，其特征在于，构成所述勾形磁铁和所述镜像磁铁的多个永磁铁间的间隙沿所述第一方向排列。
3.根据权利要求1或2所述的等离子体源，其特征在于，
具有多个所述间隙，
所述制冷剂流道的制冷剂流入通道和制冷剂流出通道设置在不同的间隙内。
4.根据权利要求1所述的等离子体源，其特征在于，
在所述室的第一面上形成有开口，所述开口用于从在内部生成的等离子体释放离子或电子，
在所述第一方向上，制冷剂从与所述第一面相反侧的所述室的第二面流入流出。
5.根据权利要求4所述的等离子体源，其特征在于，在所述室的第一面上具有与设置在所述间隙内的制冷剂流道的端部连接的环状制冷剂流道。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日新离子机器株式会社，未经日新离子机器株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810035138.3/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：表面波等离子体加工设备
- 下一篇：具有串联离子迁移率分析器的质谱仪
