[发明专利]彩膜基板及制备方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201810036168.6 申请日: 2018-01-15
公开(公告)号: CN108089368B 公开(公告)日: 2022-04-19
发明(设计)人: 惠翔;赵宝杰;雷晓冉;王丽;赵言;王雄伟;李坚;马春红;麻清琳 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G02F1/1362;G03F9/00
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 赵天月
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 彩膜基板 制备 方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种彩膜基板,其特征在于,包括:

基板衬底;以及

滤光层,所述滤光层设置在所述基板衬底上,所述滤光层包括排列成多行的多个色阻单元,

其中,多个所述色阻单元中的任一个,在所述基板衬底上正投影的边缘,延伸至与其相邻的所述色阻单元在所述基板衬底上的正投影区域中,所述色阻单元侧壁的至少一部分为斜面,相邻的两个所述色阻单元的侧壁,在所述斜面处相接触,且相邻两个所述色阻单元在所述基板衬底上的正投影的重合区域构成遮光区,所述多个色阻单元包括具有第一颜色的第一色阻单元以及多个第二色阻单元,所述第二色阻单元具有多种颜色,所述第一色阻单元的透光率,低于所述第二色阻单元的透光率,所述第一色阻单元为蓝色,所述第二色阻单元为红色或者绿色;

相邻设置的两个所述第二色阻单元之间具有对位标记,所述对位标记以及所述第一色阻单元同层同材料设置,所述对位标记的高度,小于所述第一色阻单元的高度;

所述对位标记在所述基板衬底上的正投影,覆盖相邻设置的两个所述第二色阻单元在所述基板衬底上的正投影之间的重叠区域,所述对位标记的宽度与所述重叠区域的宽度之差为2微米。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述多个色阻单元包括第一色阻单元、第二色阻单元以及第三色阻单元,沿着垂直于所述多个色阻单元排列的方向,所述第一色阻单元的纵剖面为正梯形,所述第三色阻单元的纵剖面为倒梯形,

且所述第二色阻单元的两个侧壁为向同一方向倾斜的斜面。

3.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1-2任一项所述的彩膜基板。

4.根据权利要求3所述的显示装置,其特征在于,进一步包括:

与所述彩膜基板对盒设置的阵列基板,所述阵列基板上设置有多条栅线以及多条数据线,

其中,所述栅线以及所述数据线的至少之一,在所述阵列基板上的正投影,位于所述彩膜基板上对位标记在所述阵列基板上的正投影区域内。

5.根据权利要求3所述的显示装置,其特征在于,所述显示装置为虚拟现实显示装置。

6.一种制备彩膜基板的方法,其特征在于,所述彩膜基板包括基板衬底以及设置在所述基板衬底上的滤光层,所述滤光层包括排列成多行的多个色阻单元,多个所述色阻单元中的任一个,在所述基板衬底上正投影的边缘,延伸至与其相邻的所述色阻单元在所述基板衬底上的正投影区域中,所述色阻单元侧壁的至少一部分为斜面,相邻的两个所述色阻单元的侧壁,在所述斜面处相接触,且相邻两个所述色阻单元在所述基板衬底上的正投影的重合区域构成遮光区,所述多个色阻单元包括具有第一颜色的第一色阻单元以及多个第二色阻单元,所述第二色阻单元具有多种颜色,所述第一色阻单元的透光率,低于所述第二色阻单元的透光率,所述第一色阻单元为蓝色,所述第二色阻单元为红色或者绿色,所述方法包括:

依次在所述基板衬底上形成排列成多行的所述色阻单元,

其中,后形成的所述色阻单元的起始边界,是依靠与其相邻且在先形成的所述色阻单元的边界而确定的;

相邻设置的两个所述第二色阻单元之间具有对位标记,所述对位标记以及所述第一色阻单元同层同材料设置,所述对位标记的高度,小于所述第一色阻单元的高度;

所述对位标记在所述基板衬底上的正投影,覆盖相邻设置的两个所述第二色阻单元在所述基板衬底上的正投影之间的重叠区域,所述对位标记的宽度与所述重叠区域的宽度之差为2微米。

7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述方法包括:

在所述基板衬底上,通过第一构图工艺形成多个平行排列的第一色阻单元;

基于所述第一色阻单元的边缘,通过第二构图工艺,形成多个平行排列的具有一种颜色的所述第二色阻单元;

基于所述第二色阻单元远离所述第一色阻单元一侧的边缘,通过第三构图工艺,形成多个平行排列的具有另一种颜色的所述第二色阻单元。

8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述具有一种颜色的所述第二色阻单元,远离所述第一色阻单元一侧的边界,是依靠所述对位标记确定的。

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